[发明专利]一种复合于M42钢表面的碳化钛纳米墙及其制备方法和应用有效
申请号: | 201710539212.0 | 申请日: | 2017-07-04 |
公开(公告)号: | CN109207959B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 马付根;江南;王少龙;杨科 | 申请(专利权)人: | 宁波晨鑫维克工业科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 陆凤;马莉华 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 复合 m42 表面 碳化 纳米 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明涉及一种复合于M42钢表面的碳化钛纳米墙及其制备方法和应用。具体地,所述制备方法采用化学沉积法在M42钢表面制备所述碳化钛纳米墙。所述制备方法具有工艺简单、成本低、安全环保等优点。所述碳化钛纳米墙具有呈一定角度复合于金属基材表面、与金属基材表面结合强度较高、能耐较高温度、吸光度高且疏水性好等特点。
技术领域
本发明涉及材料领域,具体地涉及金属-陶瓷复合材料的制备领域,更具体地涉及一种复合于M42钢表面的碳化钛纳米墙及其制备方法和应用。
背景技术
金属-陶瓷基复合材料因为在力学、电学、光学等领域具有许多特殊的性能而受到人们的广泛关注。金属-陶瓷基纳米墙作为一种新型的金属-陶瓷基复合材料,其接触角、吸光度等物理性能与其他材料有较大差异,致使其有巨大的潜在应用价值。碳化钛纳米墙作为陶瓷基纳米墙的一种,具有陶瓷基纳米墙的基本性质,同时具有硬度高、化学稳定性高等特点,可能被运用于光学、机械等领域。
但是,采用传统方法很难制备呈一定角度复合于金属表面,且与金属表面结合强度较高,同时能耐较高温度的碳化钛纳米墙。
发明内容
本发明的目的在于提供一种呈一定角度复合于金属表面,且与金属表面结合强度较高,同时能耐较高温度的碳化钛纳米墙及其制备方法。
本发明的第一方面,提供了一种复合于M42钢表面的碳化钛纳米墙的制备方法,包括如下步骤:
1)提供M42高速钢、碳源、钛源和辅助气体;
2)将所述M42高速钢置于CVD炉内,在所述辅助气体气氛下,加热CVD炉至沉积保温温度;
3)将所述碳源和所述钛源通入所述经加热的CVD炉内,保温第一时间段;
4)将所述CVD炉以第一降温速率降温至第二温度,同时停止通入所述碳源和所述钛源;
5)在所述CVD炉降温至第二温度后,停止通入所述辅助气体,得到所述复合于M42钢表面的碳化钛纳米墙。
在另一优选例中,所述碳源选自下组:甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、丙烯、乙炔、或其组合;和/或
所述钛源为四氯化钛。
在另一优选例中,所述碳源为气态。
在另一优选例中,所述钛源为液态。
在另一优选例中,当所述钛源为液态时,在通入CVD炉之前,所述钛源经汽化处理。
在另一优选例中,所述辅助气体为非氧化性气体。
在另一优选例中,所述辅助气体选自下组:氢气、氩气、或其组合。
在另一优选例中,所述辅助气体具有选自下组的作用:
1)作为载体,将经汽化的钛源载入CVD炉;
2)作为抗氧化气体,以避免所述碳化钛在沉积过程中发生氧化。
在另一优选例中,所述沉积保温温度为970-980℃,较佳地973-978℃,更佳地974-978℃。
在另一优选例中,步骤3)进行所述涂层的沉积过程,且步骤3)中,所述辅助气体和所述碳源的流量比为1-8,较佳地,为2-7,更佳地3-6。
在另一优选例中,步骤3)中,所述碳源的流量为400-2000sccm,较佳地600-1800sccm,更佳地800-1600sccm。
在另一优选例中,步骤3)中,所述辅助气体的流量为3000-7000ccm,较佳地3200-6000sccm,更佳地3400-5000sccm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波晨鑫维克工业科技有限公司,未经宁波晨鑫维克工业科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710539212.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的