[发明专利]一种覆盖表面式触摸屏、其制作方法及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，尤指一种覆盖表面式触摸屏、其制作方法及显示装置。

背景技术

在液晶显示器领域中，覆盖表面式(On Cell)触摸屏因触控模块与显示面板进行了有机的结合，触控灵敏性、抗冲击以及抗摔性都比较高，且该触摸屏具有无拖影及抖动等优点成为当今触控显示器的主要竞争者。

目前，覆盖表面式触控(On Cell Touch)模式主要是在阵列基板与彩膜基板成盒后，将氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)制作的触控薄膜镀在彩膜基板上。图1a为覆盖表面式触摸屏的截面图，图1b为覆盖表面式触摸屏的俯视图，在实际生产中，在彩膜基板101上形成的触控电极102(Touch Electrode) 裸露在彩膜基板101的外表面，从图1a中可以看出，制作触控电极102之后形成了较大的段差，从图1b中可以看出，在各个触控电极102的间隙处可以直接看到彩膜基板101。由于段差较大，以及触控电极与彩膜基板的粘附力有限等原因，在后续清洗、切割(cut)、压力测试(Grinder)等工艺中，触控电极容易被划伤或脱落，从而导致显示不良，影响产品良率，成本增加。

因此，如何防止覆盖表面式触摸屏的触控电极容易发生划伤或脱落等现象是急需解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供一种覆盖表面式触摸屏、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的覆盖表面式触摸屏的触控电极容易发生划伤或脱落等现象的问题。

本发明实施例提供了一种覆盖表面式触摸屏的制作方法，包括：

在衬底基板上形成触控电极层的图形；

在形成所述触控电极层的图形之前或之后，采用形成所述触控电极层的掩模板，在所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外的区域，形成保护层的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏的制作方法中，所述在衬底基板上形成触控电极层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成触控电极层，以及在所述触控电极层之上形成第一光刻胶层；

使用一掩模板对所述第一光刻胶层进行光刻，以得到所述第一光刻胶层的图形；

采用刻蚀工艺对所述触控电极层进行处理之后，除所述第一光刻胶层的图形，以得到所述触控电极层的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏的制作方法中，所述采用形成所述触控电极层的掩模板，在所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外的区域，形成保护层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成一层绝缘层，以及在所述绝缘层上形成一层与所述第一光刻胶层的感光性相反的第二光刻胶层；

采用所述掩模板对所述第二光刻胶层进行光刻，以得到所述第二光刻胶层的图形；

采用刻蚀工艺对所述绝缘层进行处理之后，去除所述第二光刻胶层的图形，得到的所述绝缘层的图形作为所述保护层的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏的制作方法中，所述采用形成所述触控电极层的掩模板，在所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外的区域，形成保护层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成一层与所述第一光刻胶层的感光性相反的第二光刻胶层；

采用所述掩模板对所述第二光刻胶层进行光刻，得到的所述第二光刻胶层的图形作为所述保护层的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏的制作方法中，所述掩模板的图形与所述触控电极层的图形一致时，所述第一光刻胶层采用正性光刻胶；

所述掩模板的图形与所述触控电极层的图形互补时，所述第一光刻胶层采用负性光刻胶。

本发明实施例还提供了一种覆盖表面式触摸屏，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的触控电极层，以及位于所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外区域的保护层。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏中，所述保护层由透明材料构成。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏中，所述保护层由聚二甲基硅氧烷材料构成。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述覆盖表面式触摸屏中，所述保护层的厚度小于或等于所述触控电极层的厚度。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：上述覆盖表面式触摸屏。

本发明有益效果如下：