[发明专利]一种覆盖表面式触摸屏、其制作方法及显示装置

权利要求书

1.一种覆盖表面式触摸屏的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成触控电极层的图形；

在形成所述触控电极层的图形之前或之后，采用形成所述触控电极层的掩模板，在所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外的区域，形成保护层的图形。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成触控电极层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成触控电极层，以及在所述触控电极层之上形成第一光刻胶层；

使用一掩模板对所述第一光刻胶层进行光刻，以得到所述第一光刻胶层的图形；

采用刻蚀工艺对所述触控电极层进行处理之后，除所述第一光刻胶层的图形，以得到所述触控电极层的图形。

3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述采用形成所述触控电极层的掩模板，在所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外的区域，形成保护层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成一层绝缘层，以及在所述绝缘层上形成一层与所述第一光刻胶层的感光性相反的第二光刻胶层；

采用所述掩模板对所述第二光刻胶层进行光刻，以得到所述第二光刻胶层的图形；

采用刻蚀工艺对所述绝缘层进行处理之后，去除所述第二光刻胶层的图形，得到的所述绝缘层的图形作为所述保护层的图形。

4.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述采用形成所述触控电极层的掩模板，在所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外的区域，形成保护层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成一层与所述第一光刻胶层的感光性相反的第二光刻胶层；

采用所述掩模板对所述第二光刻胶层进行光刻，得到的所述第二光刻胶层的图形作为所述保护层的图形。

5.如权利要求1～4任一项所述的制作方法，其特征在于，所述掩模板的图形与所述触控电极层的图形一致时，所述第一光刻胶层采用正性光刻胶；

所述掩模板的图形与所述触控电极层的图形互补时，所述第一光刻胶层采用负性光刻胶。

6.一种覆盖表面式触摸屏，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的触控电极层，以及位于所述衬底基板上所述触控电极层的图形之外区域的保护层。

7.如权利要求6所述的触摸屏，其特征在于，所述保护层由透明材料构成。

8.如权利要求7所述的触摸屏，其特征在于，所述保护层由聚二甲基硅氧烷材料构成。

9.如权利要求6～8任一项所述的触摸屏，其特征在于，所述保护层的厚度小于或等于所述触控电极层的厚度。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求6～9任一项所述的覆盖表面式触摸屏。