[发明专利]芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法有效

专利信息
申请号: 201710399111.8 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN107256911B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 谢海忠;闫建昌;魏学成;魏同波;宋昌斌;张韵;王军喜;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/48;H01L33/58
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 芯片 尺寸 深紫 发光二极管 封装 方法
【权利要求书】:

1.一种芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法,包括以下步骤:

在衬底上依次生长AlN模板层、n-AlGaN层、AlGaN基量子阱结构、p-AlGaN层、p-GaN层;所述AlN模板层的厚度为0.5-2um、所述n-AlGaN层的厚度为1.5-3.5um、所述AlGaN基量子阱结构为3-5对、所述p-AlGaN层的厚度为40-60nm、所述p-GaN层的厚度为150-300nm;

将P、N电极分开的深紫外芯片固定在石英透镜上;

使用模具固定带有深紫外芯片的石英透镜,使得模具开口处与深紫外芯片表面平齐;

在所述深紫外芯片侧面填充液体胶,使得液体胶的上表面与所述深紫外芯片的P、N电极平齐,并固化液体胶;

将第一AuSn片固定在所述深紫外芯片P、N电极上方并且覆盖在液体胶上表面,并预留P、N电极的隔离道;

将第二AuSn片固定在基板上,所述第二AuSn片与所述第一AuSn片上下对齐;

将所述第一AuSn片和所述第二AuSn片共晶融合,共晶融合的温度为260-400度之间,完成封装;其中,所述第一AuSn片和所述第二AuSn片中Au和Sn的比例为20:80,其厚度为2-20微米。

2.根据权利要求1所述的芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法,其中,所述衬底的材料为蓝宝石或者AlN衬底。

3.根据权利要求1所述的芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法,其中,所述石英透镜的形状为半球型或者子弹头型。

4.根据权利要求1所述的芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法,其中,所述液体胶为透深紫外的胶。

5.根据权利要求1或4所述的芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法,其中,对所述液体胶进行固化时,在烘箱内进行,烘箱的温度控制在100-200度之间。

6.根据权利要求1所述的芯片尺寸级深紫外发光二极管共晶封装方法,其中,在所述将第二AuSn片固定在基板上的步骤之前,包括以下步骤:在基板上制作通孔,用导电物质填充所述通孔,并在所述基板上制作隔离电极;

其中,所述隔离电极与所述第二AuSn片分别位于基板的两侧。

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