[发明专利]显示基板的制作方法、显示基板和显示装置有效
申请号: | 201710334266.3 | 申请日: | 2017-05-12 |
公开(公告)号: | CN106935735B | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 侯文军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
提供衬底基板;
形成第一像素界定层,所述像素界定层将所述衬底基板划分为多个像素单元;
形成第一发光元件层;
依次形成多层第二发光元件层,其中,所述方法还包括:
每形成下一层第二发光元件层之前均形成一层第二像素界定层,所述第二像素界定层在所述第一像素界定层的正投影落在所述第一像素界定层内,且所述第二像素界定层的远离所述衬底基板的表面图形与所述第一像素界定层的远离所述衬底基板的表面图形一致;
其中,同一个所述像素单元中,所述第一发光元件层和多个所述第二发光元件层形成为同一个有机发光二极管的一部分。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一发光元件层为空穴注入层,多层所述第二发光元件层分别包括空穴传输层和发光层,所述依次形成多层第二发光元件层的步骤包括:
在所述第一像素界定层的背离所述衬底基板的表面形成第二像素界定层;
以空穴传输材料为喷墨打印介质,打印形成空穴传输层;
在所述第二像素界定层的背离所述第一像素界定层的表面形成第三像素界定层;
以发光材料为喷墨打印介质,打印形成发光层。
3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述第二像素界定层和/或所述第三像素界定层的厚度为5-100nm。
4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述第二像素界定层和/或所述第三像素界定层的厚度为10-50nm。
5.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述在所述第一像素界定层的背离所述衬底基板的表面形成第二像素界定层,以及在所述第二像素界定层的背离所述第一像素界定层的表面形成第三像素界定层的步骤包括:
利用热转印方法将第二像素界定层转印到第一像素界定层的表面;
利用热转印方法将第三像素界定层转印到第二像素界定层的表面。
6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述第二像素界定层和/或所述第三像素界定层的材料包括氟化聚酰亚胺或聚硅氧烷材料。
7.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括衬底基板,形成在所述衬底基板上的第一像素界定层,所述像素界定层将所述衬底基板划分为多个像素单元;
形成在所述衬底基板上的第一发光元件层;
依次形成在所述第一发光元件层上方的多层第二发光元件层;以及,
每形成下一层所述第二发光元件层之前均形成一层的第二像素界定层,所述第二像素界定层在所述第一像素界定层的正投影落在所述第一像素界定层内,且所述第二像素界定层的远离所述衬底基板的表面图形与所述第一像素界定层的远离所述衬底基板的表面图形一致;
其中,同一个所述像素单元中,所述第一发光元件层和多个所述第二发光元件层形成为同一个有机发光二极管的一部分。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述第一发光元件层为空穴注入层,多层所述第二发光元件层分别包括空穴传输层和发光层,其中,所述空穴传输层位于所述空穴注入层和所述发光层之间。
9.根据权利要求7或8所述的显示基板,其特征在于,所述第二像素界定层由氟化聚酰亚胺或聚硅氧烷材料制成。
10.一种显示装置,所述显示装置包括显示基板,其特征在于,所述显示基板包括权利要求7至9任意一项所述的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择