[发明专利]显示装置及显示装置中基板上阻挡层的成型方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

基板，所述基板上铺设有阻挡层；

封装层，所述阻挡层的至少一部分设在所述基板面向所述封装层的一侧；

电子发光层，所述电子发光层设在所述基板与所述封装层之间，所述电子发光层上连接有第一像素电极和第二像素电极；

发光层电极，所述发光层电极铺设在所述电子发光层与所述封装层之间，

其中，所述阻挡层与所述封装层之间形成有有源层、源漏电极和栅电极，所述源漏电极与所述有源层电连接，且所述栅电极分别与所述有源层和所述源漏电极绝缘，所述源漏电极与所述第一像素电极相连，且所述栅电极与所述第二像素电极相连。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述阻挡层包括有机阻挡层和无机阻挡层。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述有机阻挡层铺设在所述基板上，所述无机阻挡层形成于所述有机阻挡层的表面上，所述有机阻挡层经过表面处理形成所述无机阻挡层。

4.根据权利要求2或3所述的显示装置，其特征在于，所述有机阻挡层为聚二甲基硅氧烷层，所述无机阻挡层为二氧化硅层。

5.根据权利要求2或3所述的显示装置，其特征在于，所述有源层设在所述阻挡层上，所述源漏电极形成在所述阻挡层或所述有源层上。

6.根据权利要求2或3所述的显示装置，其特征在于，所述栅电极与所述有源层间隔开，且所述栅电极与所述有源层之间沉积有绝缘层。

7.根据权利要求2或3所述的显示装置，其特征在于，所述基板为柔性基板，所述基板为聚酰亚胺薄膜或聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。

8.根据权利要求2或3所述的显示装置，其特征在于，所述基板和所述有源层中的至少一个包括有机半导体和金属氧化物半导体中的至少一种。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述有机半导体材料包括聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯、聚芴、并五苯、酞青氧钛和红荧烯中的至少一种；

所述金属氧化物半导体材料包括氧化锌、氧化铟锌、氧化锌锡、镓铟锌氧化物和锆铟锌氧化物(ZrInZnO)中至少一种。

10.一种根据权利要求1-9中任一项所述的显示装置中基板上阻挡层的成型方法，其特征在于，所述成型方法包括：

在所述基板上涂覆一层经羟基化的聚二甲基硅氧烷膜层，然后对聚二甲基硅氧烷膜层进行氧化处理以在聚二甲基硅氧烷膜层的表面形成二氧化硅膜层，然后对聚二甲基硅氧烷膜层进行低温固化成型。