[发明专利]光罩及其应用于主动开关阵列基板的制造方法在审
申请号: | 201710301666.4 | 申请日: | 2017-05-02 |
公开(公告)号: | CN107085321A | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 陈猷仁 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362;G03F1/00 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人: | 亓赢 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 及其 应用于 主动 开关 阵列 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种制造方式,特别是涉及一种光罩及其应用于主动开关阵列基板的制造方法。
背景技术
随着科技进步,具有省电、无幅射、体积小、低耗电量、平面直角、高分辨率、画质稳定等多项优势的液晶显示器,尤其是现今各种信息产品如:手机、笔记本电脑、数字相机、PDA、液晶屏幕等产品的普及,亦使得液晶显示器(LCD)的需求量大大提升。因此如何满足日益要求高分辨率的画素设计,且具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor liquid crystal display,TFT-LCD)已逐渐成为市场的主流。其中,主动开关阵列基板为组立液晶显示器的重要构件之一。
液晶显示器由一彩色滤光基板、主动开关阵列基板及二基板间充满液晶所构成,在较大尺寸液晶显示器中,其为维持二基板的间隙,在液晶层内分布多个间隔物以维持间隙高度保持二基板平行,另在液晶注入法以液晶真空注入法为主,但注入时间耗时,目前逐渐以滴下注入法(One Drop Fill,ODF)取代,对于间隔物的结构需要更新设计。已知技术以球型间隔物分布在液晶层间,此种结构在基板受到压力时,因间隔物滚动而破坏基板,或因为任意分布而位于画素区内产生不均匀分布,更因为间隔物的散射问题而影响产品良率,近年以微影技术形成间隔物(Photo Spacer,PS),精确的控制间隔物的位置、大小及高度取代传统球型间隔物的构造。
而液晶显示器中间隙结构的功能在于控制显示器第一基板和第二基板的间隔。因为上下两片玻璃之间主要填入液晶材料。如果没有间隙结构的支撑,上下两片玻璃的间隔的均匀性无法很好地维持。然而,第一基板和第二基板间隔的均匀性对于维持液晶显示器的显示效果及其电讯质量有重要的影响。
而主动开关阵列基板有分为具有红绿蓝光阻层在对向基板中(RGB on CF)、在平面转换型的液晶面板中具有红绿蓝光阻层在主动开关阵列基板(RGB on Array/In-Plane Switching,IPS mode)及在垂直配向型的液晶面板中具有红绿蓝光阻层在主动开关阵列基板(RGB on Array/Vertical Alignment,VA mode)。如此一来,如何提高分辨率的画素设计,其中有关主动开关阵列基板的画素结构设计将扮演一个关键设计,且传统红绿蓝白光阻层四色液晶显示器,由于穿透率较高,目前已为多家面板厂COA or COT(Color on Array or Color on TFT)开发的技术,但需在红绿蓝白彩色光阻工艺后再加上光间隔物(Photo Spacer)工艺,故使用较多材料,管控困难,工艺流程繁复,设备投资较高,由于白色光阻与光间隔物皆属于透明材料,且白色光阻比光间隔物材料至少贵3成,故有多家厂商极力开发以光间隔物取代白色光阻材料,但实际上由于光间隔物感亮度不够高,通孔的形成较小,因此需将白色光阻通孔尺寸加大50um以上以求曝出通孔>20um,如此一来会大大牺牲开口率,造成设计上的难度或影响制程良率。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明的目的在于,提供一种光罩及其应用于主动开关阵列基板的制造方法,将可以提升画素开口率与降低光罩成本。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光罩,所述光罩包括:一透光区,具有透光性的基材;一半透光区,设置于所述透光性的基材上,且由铬或铬化合物所形成;一遮光区,设置于所述透光性的基材上;以及多条细线反光材质层,设置于所述半透光区和所述遮光区之间;其中,所述光罩的透光率依据一低反光材质的掺入及分布密度而调节,使所述半透光区的透光率低于所述透光区的透光率,且高于所述遮光区的透光率。
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