[发明专利]芯片封装器件及封装方法在审
申请号: | 201710061017.1 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN108346587A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 张万宁;于德泽 | 申请(专利权)人: | 新加坡有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/768;H01L23/31;H01L23/538;H01L25/18 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王仙子 |
地址: | 新加坡兀兰1*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片封装 承载板 塑封芯片 粘接层 绝缘层 终端产品 芯片 塑封层 减小 开孔 封装 金属导体层 互连电路 塑封工艺 芯片间隔 填满 移除 切割 | ||
本发明提供了一种芯片封装器件及封装方法,所述芯片封装方法包括:提供一承载板,所述承载板上设置有第一粘接层;将多个芯片间隔放置于所述第一粘接层上;采用塑封工艺在所述承载板上形成塑封层,所述塑封层填满多个所述芯片之间的间隙,形成塑封芯片;移除所述承载板与第一粘接层;在所述塑封芯片上形成绝缘层,在所述绝缘层上形成开孔,在所述开孔内形成金属导体层以及芯片之间的互连电路;对所述塑封芯片进行切割,形成多个模块;采用本发明所述的芯片封装方法,能够减小芯片之间的距离,最终减小终端产品的面积,有利于实现终端产品的小型化。
技术领域
本发明涉及芯片封装的技术领域,特别涉及一种芯片封装器件及封装方法。
背景技术
绝缘栅双极晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)是由BJT(双极型三极管)和MOS(绝缘栅型场效应管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件,兼具MOS的高输入阻抗和GTR(巨型晶体管)的低导通压降两方面的优点。GTR饱和压降低,载流密度大,但驱动电流较大,MOS驱动功率很小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。IGBT综合了以上两种器件的优点,驱动功率小而饱和压降低,非常适合应用于直流电压为600v及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域。
图1为现有技术中IGBT模块的封装结构示意图,如图1所示,所述封装结构包括:铝碳化硅散热板1,依次位于所述铝碳化硅散热板1之上的第一焊料层2、第一铜层3、陶瓷层4以及第二铜层5,位于所述第二铜层5上彼此隔开的第二焊料层6与第三铜层7,以及位于所述第二焊料层6上的彼此隔开的二极管芯片8与IGBT 9。所述二极管芯片8、IGBT 9以及第三铜层7通过导线10相连接。
所述导线10一般为金线、铝线或铜线,线连接的缺点是导线长,电阻大,电能转换成不必要的热能。功率器件的金属线为保证低电阻率,和加强散热,必须使用粗线,在0.1毫米以上,普通的只有0.25毫米。这样就使芯片与衬底的互联距离很大,芯片之间的互联也要比普通芯片大,使得终端产品面积比较大。
因此,提供一种缩小芯片之间距离的封装,减小终端产品面积是本领域技术人员亟需解决的一个技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种芯片封装器件及封装方法,减小芯片之间的距离,最终减小终端产品的面积。
本发明的技术方案是一种芯片封装方法,包括以下步骤:
步骤S01:提供一承载板,所述承载板上设置有第一粘接层;
步骤S02:将多个芯片间隔放置于所述第一粘接层上;
步骤S03:采用塑封工艺在所述承载板上形成塑封层,所述塑封层填满多个所述芯片之间的间隙,形成塑封芯片;
步骤S04:移除所述承载板与第一粘接层;
步骤S05:在所述塑封芯片上形成绝缘层,在所述绝缘层上形成开孔,在所述开孔内形成金属导体层以及芯片之间的互连电路;
步骤S06:对所述塑封芯片进行切割,形成多个模块。
进一步的,还包括:
步骤S07:提供一基板,所述基板上形成有多个金属垫结构,所述金属垫结构与所述模块内的芯片一一对应;
步骤S08:在所述金属垫结构上形成第二粘接层;
步骤S09:将所述模块远离所述绝缘层的一侧粘接至所述基板。
进一步的,所述第二粘接层的材料为焊锡;在步骤S09中,将所述模块用贴片机放置于所述基板上,通过回流炉,使所述模块远离所述绝缘层的一侧粘接至所述基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造