[发明专利]研磨垫以及研磨方法

权利要求书

1.一种研磨垫，其用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物的研磨，所述研磨垫具有立毛部，所述立毛部是多个长度为2mm以上的纤维在基部的表面立起而成的，所述纤维的质量为250g/m²以上。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其中，所述纤维的长度为10mm以上。

3.根据权利要求1或2所述的研磨垫，其中，所述纤维的质量为800g/m²以上。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨垫，其中，所述纤维的根数为1000根/cm²以上。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨垫，其中，所述纤维的根数为4000根/cm²以上。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的研磨垫，其具有多层结构，所述多层结构是在所述基部的与所述纤维立起的一侧相反的一侧设置由弹性体形成的弹性层而成的。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的研磨垫，其中，所述凸部的高度或者所述凹部的深度为0.1mm以上。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的研磨垫，其中，所述纤维的长度为所述凸部的高度或者所述凹部的深度的5.5倍以上。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的研磨垫，其中，从相对于研磨对象物的表面呈垂直的位置的视点观察所述凸部或者所述凹部时的垂直投影图中的所述凸部或者所述凹部的投影面积为0.1cm²以上。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的研磨垫，其用于使用了含有平均二次粒径为5μm以下的磨粒以及水的研磨用组合物的所述研磨对象物的研磨。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的研磨垫，其在研磨装置中使用，所述研磨装置具备安装研磨垫的平板和使所述平板旋转的旋转机构，所述研磨垫及所述平板的大小比研磨对象物大，所述研磨装置使所述研磨对象物接触所述研磨垫从而仅对所述研磨对象物所具有的多个面中朝向所述研磨垫的面进行研磨。

12.一种研磨方法，其使用权利要求1～11中任一项所述的研磨垫对研磨对象物进行研磨。

13.一种研磨方法，其使用权利要求1～11中任一项所述的研磨垫和含有平均二次粒径为5μm以下的磨粒及水的研磨用组合物，对含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物进行研磨。

14.根据权利要求12或13所述的研磨方法，其使用具备安装所述研磨垫的平板和使所述平板旋转的旋转机构、且所述研磨垫及所述平板的大小比所述研磨对象物大的研磨装置，使所述研磨对象物接触所述研磨垫从而仅对所述研磨对象物所具有的多个面中朝向所述研磨垫的面进行研磨。