[实用新型]一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及蒸发源技术领域，尤其涉及一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备。

背景技术

在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管中)生产中，需要通过蒸镀设备进行蒸镀加工。现有的蒸镀设备主要分为线源蒸镀和点源蒸镀。由于线性源的材料利用率高，大尺寸基板的OLED蒸镀设备基本采用线源蒸镀的方式。

目前蒸镀设备监测膜厚的方法是采用石英晶体振荡监测法和光学膜厚监测法结合方法来监测薄膜生产的准确性和重复性，但固定位置的单点石英晶体振荡监测法很难及时发现线性源在生产过程中存在的异常问题。在高真空环境中，根据平均分子自由程的理论得出，越靠近石英晶体的线性源喷嘴，其吐出的蒸汽分子蒸镀到石英晶振片上的概率更大，因此对速率监测结果的影响越大，而实际生产过程距离石英晶体越远的喷嘴其吐出速率的波动越难监测到位，特别是在生产实际过程中，线性源个别喷嘴出现堵塞情况时，固定位置的速率监测装置不能及时发现，从而导致大批量产品报废，严重影响生产良率，增加生产成本。

公布号为CN103160798A公开了一种侦测蒸发源的装置及方法，其将侦测器可移动设置在蒸镀装置的导轨装置上，以侦测整个线性蒸发源的蒸镀速率，及时发现蒸镀源的异常，进而提高产品的良率和品质。但该专利申请文件公开的技术方案，在导轨装置上并不存在能够避免导轨装置移动过程中产生的微粒子对蒸镀速率稳定性造成影响的结构，致使导轨装置对蒸镀速率稳定性造成影响，影响蒸镀的精确性。

实用新型内容

本实用新型的发明目的在于提供一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备，采用本实用新型提供的技术方案能够在对整个蒸镀设备的蒸镀速率进行及时有效的检测的同时，还能减小检测系统移动过程中对蒸镀速率的影响。

为了达到上述发明目的，本实用新型一方面提供一种可移动的线性蒸发源速率监测系统，包括移动装置、蒸镀速率监测装置和蒸镀材料阻挡装置；所述移动装置为与蒸发源喷嘴并排形成的直线平行的滑轨；所述监测装置滑动设置于所述滑轨上，且其监测头朝向所述蒸发源喷嘴；所述阻挡装置包括两个滚轴、驱动所述滚轴的驱动装置、以及质软的、且绕在两个所述滚轴上形成环状的挡板；所述挡板位于所述滑轨与喷嘴之间，且所述滑轨朝向所述喷嘴投向所述挡板的投影完全落入所述挡板上；所述监测装置固定于所述挡板上，且在所述挡板上开设有供所述监测装置的监测头伸出的通孔。

优选的，所述挡板位于所述喷嘴的喷射轨迹以外。

优选的，所述驱动装置为电机驱动组件。

优选的，所述监测装置为石英晶体振荡器组件。

本实用新型另一方面还提供一种蒸镀设备，包括上述任一项所述的线性蒸发源速率监测系统。

由上可见，应用本实用新型实施例的技术方案，有如下有益效果：

本实用新型通过移动装置移动蒸镀速率监测装置，增加线性源蒸镀时蒸镀速率监测的灵活性，通过移动装置移动监测装置的位置，来监测整个线性源的蒸镀速率，从而快速有效发现线性源蒸镀速率异常地方，降低生产风险，提高生产良率，降低生产成本，同时阻挡装置能够防止蒸镀材料粘附到滑轨上，导致监测装置移动过程中产生的微粒子对蒸镀速率稳定性造成影响，通过阻挡装置来降低风险，同时速率监测仪器固定在挡板上，通过挡板移动带动速率监测仪器来监测线性源的不同位置的速率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对本实用新型实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一部分实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例结构示意图；

图2为本实用新型实施例线性蒸发源速率监测系统结构示意图；

图3为本实用新型实施例阻挡装置结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚地描述。

随着蒸镀面板的大型化，线性源的长度也随着增加，固定式的速率监测装置不能有效监测线性源各段的速率，一旦线性源的吐出机构，即蒸发源喷嘴出现堵塞，速率监测装置不能及时发现，从而导致大批量产品报废。

请参见图1，为了解决上述技术问题，本实施例公开了一种可移动的线性蒸发源速率监测系统，该线性蒸发源速率监测系统包括移动装置10和蒸镀速率监测装置20。