[实用新型]内置IC的集成功率场效应管有效

专利信息
申请号: 201620985505.2 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN206163484U 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 魏广乾 申请(专利权)人: 重庆凯西驿电子科技有限公司
主分类号: H01L25/04 分类号: H01L25/04;H01L29/78;H01L23/367;H01L23/46
代理公司: 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)50217 代理人: 蒙捷
地址: 401147 重庆市渝北*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 内置 ic 集成 功率 场效应
【权利要求书】:

1.一种内置IC的集成功率场效应管,包括MOSFET管,其特征在于,还包括IC芯片,IC芯片置于MOSFET内部,所述MOSFET管的芯片上光刻有IC芯片的电路;还包括直接光刻在MOSFET板芯片上的导线,所述导线连接所述IC芯片的引脚与对应的MOSFET管引脚。

2.如权利要求1所述的内置IC的集成功率场效应管,其特征在于,MOSFET的衬底的材料为100晶面的Si晶体。

3.如权利要求1所述的内置IC的集成功率场效应管,其特征在于,还包括封壳、第一引脚、第二引脚、第三引脚和散热片,所述散热片固定安装在封壳一侧面,安装散热片封壳侧面的对侧面上固定安装有第一引脚、第二引脚与第三引脚,所述第一引脚和第三引脚弯折,第一引脚弯折处与水平面的角度为30-45度,第三引脚弯折处与水平面的角度为30-45度。

4.如权利要求1所述的内置IC的集成功率场效应管,其特征在于,还包括封壳,所述封壳内部为装有酒精的腔体,封壳上方有网状管道,所述网状管道与腔体连通。

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