[发明专利]镍靶材制作方法有效

专利信息
申请号: 201611186151.6 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN108203806B 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;曹欢欢 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22F1/10;B24B1/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高静;吴敏
地址: 315400 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 镍靶材 制作方法
【说明书】:

一种镍靶材的制作方法,包括:形成镍板;对所述镍板进行抛光;对抛光后的镍板进行离心研磨,制作成镍靶材。由于金属镍具有良好的机械强度,承受外力作用时,抵抗变形和断裂的能力较强,因此适宜采用抛光、研磨等加工方式。通过抛光的方式可以有效去除镍板表面的氧化物及其杂质,接着通过离心研磨的方式进一步去除镍板表面的杂质,通过抛光结合离心研磨的方式有效的提高了镍靶材的洁净度。

技术领域

发明涉及靶材制造领域,尤其涉及一种镍靶材制作方法。

背景技术

物理气相沉积(PVD,Physical Vapor Deposition)技术是半导体工业等多种行业的核心技术。它主要是利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离,利用电场加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。因此,所述靶材的纯度和洁净度至关重要。

一般制备靶材产品的方法包括:提供符合靶材性能的金属,例如高纯度镍(一般为99.99%);对所述金属进行预热、挤压成型、粗加工和精加工等工艺,最后加工成尺寸合格的靶材产品。然而,所述挤压成型工艺、热处理等步骤容易使所述金属的洁净度降低,从而导致所形成的靶材性能下降。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种镍靶材的制作方法,以提高镍靶材的洁净度。

为解决上述问题,本发明提供一种镍靶材的制作方法,所述方法包括:形成镍板;对所述镍板进行抛光;对抛光后的镍板进行离心研磨,制作成镍靶材。

可选的,对所述镍板进行抛光之后,离心研磨之前,所述制作方法还包括:将所述镍板制作成镍方片;将所述镍方片进行酸洗;所述离心研磨的步骤中,将酸洗之后的镍方片进行离心研磨。

可选的,所述离心研磨的步骤在离心研磨机滚筒内执行;所述离心研磨的步骤包括:将所述镍方片置于离心研磨机滚筒内,所述滚筒加料小于或等于所述滚筒深度的三分之一。

可选的,所述离心研磨的步骤在离心研磨机滚筒内执行;所述离心研磨的步骤包括在所述离心研磨机滚筒中加入30ml~50ml的研磨剂。

可选的,所述离心研磨的转速为180转/分钟~200转/分钟,所述离心研磨时间为10分钟~20分钟。

可选的,进行所述离心研磨之后,对所述镍方片进行干燥。

可选的,所述干燥的步骤包括:将离心研磨后的所述镍方片过筛滤干,将过筛滤干后的所述镍方片采用气枪吹干。

可选的,所述酸洗的步骤包括:将所述镍方片放入航空煤油中,进行第一清洗;将第一清洗后的所述镍方片移至异丙醇溶液中,进行第二清洗;将第二清洗后的所述镍方片移至酸液中,进行第三清洗;将第三清洗后的所述镍方片置于纯水中进行纯水清洗;将纯水清洗后的所述镍方片进行干燥处理。

可选的,在进行所述酸洗的步骤中,将所述镍方片放置在滚筒中进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述第三清洗;进行所述第一清洗及第二清洗的步骤中,使所述滚筒保持静止;进行所述第三清洗的步骤中,使所述滚筒保持滚动。

可选的,在进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述纯水清洗的步骤中,对所述镍方片进行超声波振荡。

可选的,在所述第一清洗的步骤中,进行超声波振荡的时间为10分钟~20分钟;在所述第二清洗的步骤中,进行超声波振荡的时间为5分钟~15分钟;在所述纯水清洗的步骤中,进行超声波振荡的时间为5分钟~10分钟。

可选的,所述酸液为硝酸溶液,其中硝酸质量比为15%~20%;酸洗时间为3分钟~5分钟。

可选的,形成所述镍板的步骤包括:提供铸态镍;对所述铸态镍进行锻打;对锻打后的所述铸态镍进行铣加工,制作成镍锭;对所述镍锭进行压延,制作成镍板。

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