[发明专利]一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201610937244.1 申请日: 2016-11-01
公开(公告)号: CN106486557B 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 袁晓杰;张军;廖峻;邵乐喜 申请(专利权)人: 岭南师范学院
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/0392;H01L31/0749;C01G11/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 张月光,林伟斌
地址: 524048 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 深紫 光化学 水浴 沉积 制备 硫化 纳米 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法,其特征在于,将金属源CdSO4、硫源Na2S2O3、含SO32-的硫源释放控制剂及H2SO4溶液混合,得到沉积液,将沉积液的pH值稳定在3.5~4.0,将衬底浸渍于沉积液中,使沉积液液面与衬底的上表面的距离小于1mm,使用LED深紫外光照射,形成硫化镉纳米薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属源CdSO4浓度为1.5×10-3~2.5×10-3mol/L,硫源Na2S2O3浓度为0.08~0.15mol/L、含SO32-的硫源释放控制剂浓度为4×10-4~7.5×10-4mol/L、H2SO4溶液的质量分数为0.3%。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述金属源CdSO4、硫源Na2S2O3、含SO32-的硫源释放控制剂以及H2SO4溶液的混合体积比为1:1:1:1。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述含SO32-的硫源释放控制剂为Na2SO3或(NH4)2SO3

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述深紫外光的光源为单波长光源,波长为275nm,功率为0.8~1.5mW/cm2

6.根据权利要求1或5所述的方法,其特征在于,深紫外光照射的时间为35~45min。

7.根据权利要求1或5所述的方法,其特征在于,深紫外光先经过抛物面反光膜聚光,再经过紫外熔融石英散射片散射,再经过反光膜通道聚光,并使聚光通道底部距离沉积液面小于2mm。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,衬底为ITO玻璃、涂覆有CIGS吸收层的玻璃,衬底在使用前经过表面活化处理。

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