[发明专利]一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法有效
申请号: | 201610937244.1 | 申请日: | 2016-11-01 |
公开(公告)号: | CN106486557B | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 袁晓杰;张军;廖峻;邵乐喜 | 申请(专利权)人: | 岭南师范学院 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/0392;H01L31/0749;C01G11/02 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 张月光,林伟斌 |
地址: | 524048 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 深紫 光化学 水浴 沉积 制备 硫化 纳米 薄膜 方法 | ||
1.一种深紫外光化学水浴沉积制备硫化镉纳米薄膜的方法,其特征在于,将金属源CdSO4、硫源Na2S2O3、含SO32-的硫源释放控制剂及H2SO4溶液混合,得到沉积液,将沉积液的pH值稳定在3.5~4.0,将衬底浸渍于沉积液中,使沉积液液面与衬底的上表面的距离小于1mm,使用LED深紫外光照射,形成硫化镉纳米薄膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属源CdSO4浓度为1.5×10-3~2.5×10-3mol/L,硫源Na2S2O3浓度为0.08~0.15mol/L、含SO32-的硫源释放控制剂浓度为4×10-4~7.5×10-4mol/L、H2SO4溶液的质量分数为0.3%。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述金属源CdSO4、硫源Na2S2O3、含SO32-的硫源释放控制剂以及H2SO4溶液的混合体积比为1:1:1:1。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述含SO32-的硫源释放控制剂为Na2SO3或(NH4)2SO3。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述深紫外光的光源为单波长光源,波长为275nm,功率为0.8~1.5mW/cm2。
6.根据权利要求1或5所述的方法,其特征在于,深紫外光照射的时间为35~45min。
7.根据权利要求1或5所述的方法,其特征在于,深紫外光先经过抛物面反光膜聚光,再经过紫外熔融石英散射片散射,再经过反光膜通道聚光,并使聚光通道底部距离沉积液面小于2mm。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,衬底为ITO玻璃、涂覆有CIGS吸收层的玻璃,衬底在使用前经过表面活化处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于岭南师范学院,未经岭南师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610937244.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的