[发明专利]向有机发光二极管沉积钝化层的直列式原子层沉积设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种直列式原子层沉积设备，更具体涉及一种向有机发光二极管(下文中，被称为OLED)基板沉积钝化层的直列式原子层沉积设备，其中当OLED基板在相互平行地设置着多个线源的真空室中以直线方式水平移动时，执行沉积过程，以允许无极薄膜作为钝化层被沉积在速度大于3nm/min的OLED基板上。

背景技术

OLED具有高可再现的色度范围、大观察角度、轻薄和明亮的特征，使其日益增加地用于移动式设备、大尺寸电视、柔性装置等。顺便一提的是，与LCD不同，OLED是有机薄膜并且因此对大水或氧起反应，因而削弱了其耐用性。因此，需要钝化层或封装层来保护OLED。

已经公开了一种传统技术，其中，玻璃基板或膜被用作钝化层或封装层，以将OLED用作柔性显示器，钝化层或封装层应具有薄层的形状。当前，通过多次层合金属氧化物和有机层而形成的薄层已经被建议作为具有薄层形状的钝化层或封装层。

在这种情况下，金属氧化物无机层通过利用喷溅、PECVD、ALD(原子层沉积)等沉积类似Al₂O₃的金属氧化物而形成，而金属氧化物有机层利用沉积设备、喷墨设备等形成。

这时，决定可渗透性的无机层利用具有极好薄层特征和高阶梯覆盖的ALD形成，然而，虽然具有极好的薄层特征，但沉积速度相对较低，因而不希望地导致低生产率。

发明内容

【技术问题】

相应地，本发明试图解决上述问题，本发明的目的是提供用于向OLED基板沉积钝化层的直列式原子层沉积设备，其中当OLED基板在相互平行地设置着多个线源的真空室中以直线方式水平移动时，执行沉积过程，以允许无极薄膜作为钝化层被沉积在速度大于3nm/min的OLED基板上。

【技术方案】

为了实现上述目的，根据本发明，提供了一种向OLED沉积钝化层的直列式原子层沉积设备，所述设备包括：适于在其中形成真空状态的真空室；水平方向上的基板移动件，其被设置在真空室的下侧用于将OLED基板从真空室的一侧水平移动到真空室的另一侧；和原子层沉积件，其设置在真空室的上侧，用于借助于原子层沉积向正在被基板移动件水平移动的OLED基板沉积钝化层。

根据本发明，希望的是，所述原子层沉积件被配置为具有彼此间隔开一给定距离的多个线源。

根据本发明，希望的是，每个线源包括：竖立部，其被设置为在其中心处竖立放置以向下喷射前驱体；第一等离子喷嘴，其被以朝向竖立部倾斜一给定角度的方式设置在竖立部的左侧，并且适于通过利用从外面供应的电源将过程气体转变为等离子以及向下喷射等离子；和第二等离子喷嘴，其被以朝向竖立部倾斜一给定角度的方式设置在竖立部的右侧，并且适于通过利用从外面供应的电源将过程气体转变为等离子以及向下喷射等离子。

根据本发明，希望的是，所述第一等离子喷嘴包括：第一外壳；耦合到第一外壳的底侧的第一隔离体；耦合到第一隔离体的底侧的第一电极；在第一电极底侧的两侧上以相互面对的方式彼此间隔开的一对第一侧磁体安装部分；第一中心磁体安装部分，其设置在第一电极的底侧的中心，用于将由第一侧磁体安装部分形成的空间分成两个部分；第一侧磁体，其设置在第一侧磁体安装部分上；第一中心磁体，其设置在第一中心磁体安装部分上；和第一过程气体供应源，其设置在第一电极的底侧，用于向由第一侧磁体安装部分和第一中心磁体安装部分形成的空间供应过程气体。

根据本发明，希望的是，所述第一等离子喷嘴还包括：第一电极冷却器，其设置在第一电极上，用于借助于冷却剂的循环来冷却第一电极；和第一磁体冷却器，其设置在第一侧磁体安装部分的底侧，用于借助于冷却剂的循环来冷却第一侧磁体安装部分和第一侧磁体。

根据本发明，希望的是，所述第一侧磁体以允许N极部分和S极部分在上下方上彼此间隔开的方式设置在第一侧磁体安装部分的内表面上。

根据本发明，希望的是，所述第一中心磁体以允许N极部分和S极部分彼此相邻的方式设置在第一中心磁体安装部分上。