[发明专利]用以在蒸镀机台提升基板与光罩间的对位精度的对位方法有效
申请号: | 201610742772.1 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN107723657B | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 陈文山;张致盛 | 申请(专利权)人: | 盟立自动化股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/54 |
代理公司: | 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用以 机台 提升 光罩间 对位 精度 方法 | ||
一种用以在一蒸镀机台提升一基板与一光罩间的对位精度的对位方法,包含一处理单元在一记号影像的一周缘撷取多个边界抽取范围;所述处理单元对各边界抽取范围撷取复数列影像列,且各影像列具有多个像素;所述处理单元将所述多个像素转换为多个强度值,其中各强度值为对应的所述像素的一像素位置的函数;所述处理单元根据所述多个强度值得出通过各强度值的一曲线方程式;以及所述处理单元将所述曲线方程式作二次微分,以得出所述曲线方程式的一反曲点,并将所述曲线方程式的所述反曲点定义为对应的所述影像列的一边界点;所述处理单元依据各影像列的所述边界点计算出所述记号的一记号中心。
技术领域
本发明涉及一种对位方法,特别涉及一种用以在一蒸镀机台提升一基板与一光罩间的对位精度的对位方法。
背景技术
在有机发光二极管的蒸镀制程中,主要将具有开口的光罩设置在基板前方,以使汽化后的发光分子通过光罩上的开口附着在基板上,为使发光分子能够准确地附着在基板上,光罩与基板间的对位精度需要达到1微米(μm)。当欲使用影像捕获设备进行光罩与基板间的对位时,由于影像捕获设备所撷取的影像的最小单位为1像素(pixel),因此光罩与基板间的对位精度无法达到要求,进而造成产品良率降低,制造成本攀升。
发明内容
因此,本发明提供一种用以在一蒸镀机台提升一基板与一光罩间的对位精度的对位方法,以解决上述问题。
根据本发明其中一实施例,本发明公开一种用以在一蒸镀机台提升一基板与一光罩间的对位精度的对位方法,所述蒸镀机台具有一处理单元及一第一影像捕获设备,所述第一影像捕获设备耦接所述处理单元,所述光罩具有对应所述第一影像捕获设备的一第一光罩记号,且所述对位方法包含所述第一影像捕获设备对所述第一光罩记号撷取一第一光罩影像;所述处理单元由所述第一光罩影像中撷取一第一光罩区域影像,其中所述第一光罩区域影像具有对应所述第一光罩记号的一第一光罩记号影像;所述处理单元在所述第一光罩记号影像的一周缘撷取多个第一光罩边界抽取范围;所述处理单元对各第一光罩边界抽取范围撷取复数列第一光罩边界抽取影像列,且各第一光罩边界抽取影像列具有多个第一光罩像素;所述处理单元将所述多个第一光罩像素转换为多个第一光罩强度值,其中各第一光罩强度值为对应的所述第一光罩像素的一第一光罩像素位置的函数;所述处理单元根据所述多个第一光罩强度值得出通过各第一光罩强度值的一第一光罩曲线方程式;以及所述处理单元将所述第一光罩曲线方程式作二次微分,以得出所述第一光罩曲线方程式的一反曲点,并将所述第一光罩曲线方程式的所述反曲点定义为对应的所述第一光罩边界抽取影像列的一边界点。
根据本发明其中一实施例,本发明另公开所述对位方法还包含所述处理单元依据各第一光罩边界抽取影像列的所述边界点计算所述第一光罩记号的一第一光罩记号中心。
根据本发明其中一实施例,本发明另公开所述蒸镀机台还具有一第二影像捕获设备,所述第二影像捕获设备耦接所述处理单元,所述光罩还具有对应所述第二影像捕获设备的一第二光罩记号,且所述对位方法还包含所述第二影像捕获设备对所述第二光罩记号撷取一第二光罩影像;所述处理单元由所述第二光罩影像中撷取一第二光罩区域影像,其中所述第二光罩区域影像具有对应所述第二光罩记号的一第二光罩记号影像;所述处理单元在所述第二光罩记号影像的一周缘撷取多个第二光罩边界抽取范围;所述处理单元对各第二光罩边界抽取范围撷取复数列第二光罩边界抽取影像列,且各第二光罩边界抽取影像列具有多个第二光罩像素;所述处理单元将所述多个第二光罩像素转换为多个第二光罩强度值,其中各第二光罩强度值为对应的所述第二光罩像素的一第二光罩像素位置的函数;所述处理单元根据所述复数第二光罩强度值得出通过各第二光罩强度值的一第二光罩曲线方程式;以及所述处理单元将所述第二光罩曲线方程式作二次微分,以得出所述第二光罩曲线方程式的一反曲点,并将所述第二光罩强度曲线的所述反曲点定义为对应的所述第二光罩边界抽取影像列的一边界点。
根据本发明其中一实施例,本发明另公开所述对位方法还包含所述处理单元依据各第二光罩边界抽取影像列的所述边界点计算出所述第二光罩记号的一第二光罩记号中心。
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