[发明专利]用以在蒸镀机台提升基板与光罩间的对位精度的对位方法

权利要求书

1.一种用以在一蒸镀机台提升一基板与一光罩间的对位精度的对位方法，所述蒸镀机台具有一处理单元、一第一影像捕获设备、一第二影像捕获设备、一第三影像捕获设备以及一第四影像捕获设备，所述第一影像捕获设备、所述第二影像捕获设备、所述第三影像捕获设备以及所述第四影像捕获设备耦接所述处理单元，所述光罩具有对应所述第一影像捕获设备的一第一光罩记号、对应所述第二影像捕获设备的一第二光罩记号、对应所述第三影像捕获设备的一第三光罩记号以及对应所述第四影像捕获设备的一第四光罩记号，所述基板具有对应所述第一影像捕获设备的一第一基板记号、对应所述第二影像捕获设备的一第二基板记号、对应所述第三影像捕获设备的一第三基板记号以及对应所述第四影像捕获设备的一第四基板记号，其特征在于，所述对位方法包含：

所述第一影像捕获设备对所述第一光罩记号撷取一第一光罩影像；

所述处理单元由所述第一光罩影像中撷取一第一光罩区域影像，其中所述第一光罩区域影像具有对应所述第一光罩记号的一第一光罩记号影像；

所述处理单元在所述第一光罩记号影像的一周缘撷取多个第一光罩边界抽取范围；

所述处理单元对各第一光罩边界抽取范围撷取复数列第一光罩边界抽取影像列，且各第一光罩边界抽取影像列具有多个第一光罩像素；

所述处理单元将所述多个第一光罩像素转换为多个第一光罩强度值，其中各第一光罩强度值为对应的所述第一光罩像素的一第一光罩像素位置的函数；

所述处理单元根据所述多个第一光罩强度值得出通过各第一光罩强度值的一第一光罩曲线方程式；

所述处理单元将所述第一光罩曲线方程式作二次微分，以得出所述第一光罩曲线方程式的一反曲点，并将所述第一光罩曲线方程式的所述反曲点定义为对应的所述第一光罩边界抽取影像列的一边界点；

所述处理单元依据各第一光罩边界抽取影像列的所述边界点计算所述第一光罩记号的一第一光罩记号中心；

所述第二影像捕获设备、所述第三影像捕获设备以及所述第四影像捕获设备分别对所述第二光罩记号、所述第三光罩记号以及所述第四光罩记号撷取一第二光罩影像、一第三光罩影像以及一第四光罩影像；

所述处理单元依据所述第二光罩影像、所述第三光罩影像以及所述第四光罩影像分别计算所述第二光罩记号的一第二光罩记号中心、所述第三光罩记号的一第三光罩记号中心以及所述第四光罩记号的一第四光罩记号中心；

所述处理单元连接所述第一光罩记号中心与所述第二光罩记号中心形成一第一光罩线段且连接所述第三光罩记号中心与所述第四光罩记号中心形成一第二光罩线段；

所述处理单元计算所述第一光罩线段与所述第二光罩线段的一交点并依据所述第一光罩线段与所述第二光罩线段的所述交点定义对应所述光罩的一光罩中心；

所述第一影像捕获设备、所述第二影像捕获设备、所述第三影像捕获设备以及所述第四影像捕获设备分别对所述第一基板记号、所述第二基板记号、所述第三基板记号以及所述第四基板记号撷取一第一基板影像、一第二基板影像、一第三基板影像以及一第四基板影像；

所述处理单元依据所述第一基板影像、所述第二基板影像、所述第三基板影像以及所述第四基板影像分别计算所述第一基板记号的一第一基板记号中心、所述第二基板记号的一第二基板记号中心、所述第三基板记号的一第三基板记号中心以及所述第四基板记号的一第四基板记号中心；

所述处理单元连接所述第一基板记号中心与所述第二基板记号中心形成一第一基板线段且连接所述第三基板记号中心与所述第四基板记号中心形成一第二基板线段；

所述处理单元计算所述第一基板线段与所述第二基板线段的一交点并依据所述第一基板线段与所述第二基板线段的所述交点定义对应所述基板的一基板中心；以及

当所述处理单元判断所述光罩中心与所述基板中心沿一第一方向的一投影距离小于一第一距离精确值、所述光罩中心与所述基板中心沿垂直于所述第一方向的一第二方向的一投影距离小于一第二距离精确值、所述第一光罩线段与所述第一基板线段所夹的一第一角度与一第一预定角度的差小于一第一角度精确值以及所述第二光罩线段与所述第二基板线段所夹的一第二角度与一第二预定角度的差是否小于一第二角度精确值时，所述处理单元判断所述光罩与所述基板彼此对位。