[发明专利]一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201610573677.3 | 申请日: | 2016-07-20 |
公开(公告)号: | CN106024929B | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 刘畅;吴莉莉;曹丙强 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/072;H01L31/18 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司37221 | 代理人: | 赵妍 |
地址: | 250061 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 变形 钙钛矿 结构 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池,其特征是,包括光吸收层,所述光吸收层的材料为变形钙钛矿结构的Cs2SnI6,
正置电池结构依次包括顶电极、电子收集层、光吸收层、空穴收集层及衬底,其制备方法是:首先,以衬底作为窗口层,并在衬底上进行电极刻蚀,然后将刻蚀后的衬底用氢氧化钾的异丙醇饱和溶液超声清洗120min,取出用乙醇冲洗干净,再用含有乙醇、异丙醇、丙酮体积比为1:1:1的混合溶液超声清洗40min,乙醇溶液清洗40min,最后烘干备用;其次,在衬底上制备空穴传输层;第三,在空穴传输层上制备变形钙钛矿结构的Cs2SnI6薄膜;第四,在Cs2SnI6薄膜上制备电子传输层,采用低压脉冲激光沉积法(PLD法)在FTO玻璃上生长厚度300nm NiO薄膜:真空条件0.05Pa,生长温度设定为50℃,保温30min,激光能量为2.0mJ/cm2,频率为5Hz;或采用PLD法制备氧化锌层,其步骤为:采用氧化锌靶材,真空条件0.1Pa,生长温度设定为150℃,保温10min,激光能量为2.0mJ/cm2,频率为10Hz;最后,在电子传输材料上制备电极;其中,第三步骤为:通过气相合成法直接在空穴传输层上制备Cs2SnI6薄膜;或通过液相沉积法合成Cs2SnI6,然后通过旋涂方法将Cs2SnI6在空穴传输层上制备成Cs2SnI6薄膜;
或,反型电池结构依次包括顶电极、空穴收集层、光吸收层、电子收集层及衬底,其制备方法是:首先,以衬底作为窗口层,并在衬底上进行电极刻蚀,然后将刻蚀后的衬底用氢氧化钾的异丙醇饱和溶液超声清洗120min,取出用乙醇冲洗干净,再用含有乙醇、异丙醇、丙酮体积比为1:1:1的混合溶液超声清洗40min,乙醇溶液清洗40min,最后烘干备用;其次,在衬底上制备电子传输层,采用低压脉冲激光沉积法在FTO玻璃上生长厚度300nm NiO薄膜:真空条件0.05Pa,生长温度设定为50℃,保温30min,激光能量为2.0mJ/cm2,频率为5Hz;第三,在电子传输层上制备变形钙钛矿结构的Cs2SnI6薄膜;第四,在Cs2SnI6薄膜上制备空穴传输层;最后,在空穴传输材料上制备电极;其中,第三步骤为:通过气相合成法直接在电子传输层上制备Cs2SnI6薄膜;或通过液相沉积法合成Cs2SnI6,然后通过旋涂方法将Cs2SnI6在电子传输层上制备成Cs2SnI6薄膜。
2.如权利要求1所述的一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池,其特征是,所述顶电极的材料为金属材料或导电炭材料。
3.如权利要求2所述的一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池,其特征是,所述金属材料Ag或Au。
4.如权利要求1所述的一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池,其特征是,所述电子收集层的材料为无机n型半导体材料或有机电子传输材料,所述电子收集层的厚度为30-300nm。
5.如权利要求1所述的一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池,其特征是,所述空穴收集层的材料为无机p型半导体材料或有机空穴传输材料,所述空穴收集层的厚度为30-300nm。
6.如权利要求1所述的一种基于无铅变形钙钛矿结构的太阳能电池,其特征是,所述衬底的材料为以FTO导电玻璃或ITO导电玻璃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东大学,未经山东大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610573677.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的