[发明专利]紫外光发光二极管的封装结构在审

专利信息
申请号: 201610351699.5 申请日: 2016-05-24
公开(公告)号: CN107425102A 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 吴上义;谢新贤 申请(专利权)人: 联京光电股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 紫外光 发光二极管 封装 结构
【权利要求书】:

1.一种紫外光发光二极管的封装结构,包含:

基材,具有电极;

芯片,设置于该基材上,并电连接该电极;

透明保护罩,覆盖该基材与该芯片;

附着层,设置于该基材与该透明保护罩之间;以及

光反射层,设置于该透明保护罩与该附着层之间,其中该透明保护罩通过该光反射层与该附着层固定于该基材上。

2.如权利要求1所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该光反射层接触该透明保护罩。

3.如权利要求1所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该光反射层的材料为金属。

4.如权利要求3所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该附着层的材料为金属,且该光反射层与该附着层共晶结合。

5.如权利要求3所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该附着层的材料为高分子树脂,且该光反射层与该附着层粘合。

6.如权利要求1所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有第一凹槽,对应该芯片,使该芯片置于该第一凹槽中。

7.如权利要求6所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有靠近该基材的一表面,并且位于该第一凹槽内的部分该表面与该基材分离。

8.如权利要求1所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该基材还包含:

凹杯结构,环绕该芯片。

9.如权利要求8所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中

该基材还包含承载板,该电极固定于该承载板上,并穿通该承载板以电性导通该承载板的两侧;以及

该凹杯结构接触该电极且与该承载板分离。

10.如权利要求8所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有第二凹槽,并且该第二凹槽对应于该凹杯结构与该芯片,使该凹杯 结构与该芯片置于该第二凹槽中。

11.如权利要求8所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有靠近该基材的一表面,并且该表面为平面。

12.如权利要求11所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该附着层接触并固定于该凹杯结构的一上表面。

13.如权利要求9所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩形成有一凸出部,该凹杯结构靠近该透明保护罩的一侧形成有一凹陷部,其中该凹陷部对应该凸出部。

14.如权利要求13所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该凸出部与该凹陷部均为环形。

15.如权利要求13所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该附着层固定于该凹陷部中,该光反射层固定于该凸出部上。

16.如权利要求15所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该附着层仅覆盖该凹陷部的一底面,该光反射层仅覆盖该凸出部的一顶面。

17.如权利要求1所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该芯片射出的光的波长为450纳米以下。

18.如权利要求1所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有远离该基材的一弧形表面。

19.一种紫外光发光二极管的封装结构,包含:

基材,具有电极;

芯片,设置于该基材上,并电连接该电极;

透明保护罩,覆盖该基材与该芯片;以及

金属层,设置于该透明保护罩靠近该基材的部分表面,其中该金属层与该电极共晶结合。

20.如权利要求19所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有凹槽,对应该芯片,使该芯片置于该凹槽中。

21.如权利要求20所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有靠近该基材的一表面,并且位于该凹槽内的部分该表面与该基材分离。

22.如权利要求19所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中

该基材还包含承载板,该电极固定于该承载板上,并穿通该承载板以电 性导通该承载板的两侧;以及

该金属层与该承载板分离。

23.如权利要求19所述的紫外光发光二极管的封装结构,其中该透明保护罩具有远离该基材的弧形表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联京光电股份有限公司,未经联京光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610351699.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top