[发明专利]反应腔室及半导体加工设备

权利要求书

1.一种反应腔室，包括上电极装置和下电极装置，所述下电极装置设置在所述反应腔室内，用于承载晶片，其特征在于，所述上电极装置包括介质筒、线圈、上功率电源、上电极板、第一选择开关和第二选择开关，其中，

所述介质筒设置在所述反应腔室的顶部；

所述线圈围绕所述介质筒设置；

所述上电极板位于所述下电极装置的上方；

所述第一选择开关用于选择性地使所述上功率电源与所述线圈的一端电连接，或者使所述上功率电源与所述上电极板电连接；

所述第二选择开关用于选择性地使所述线圈的另一端接地，或者使所述线圈的另一端与所述上电极板电连接。

2.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述第一选择开关包括第一转换开关，所述第一转换开关包括一个动触点和两个静触点，所述动触点连接所述上功率电源，且其中一个静触点连接所述线圈的一端，其中另一个静触点连接所述上电极板。

3.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述第二选择开关包括第二转换开关，所述第二转换开关包括一个动触点和两个静触点，所述动触点连接所述线圈的另一端，且其中一个静触点接地，其中另一个静触点连接所述上电极板。

4.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述第一选择开关包括：

两个独立开关，用于分别连接在所述上功率电源与所述线圈的一端之间的电路上，以及所述上功率电源与所述上电极板之间的电路上；

所述开关控制模块，用于选择性地控制所述两个独立开关的导通和断开。

5.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述第二选择开关包括：

两个独立开关，用于分别连接在所述线圈的另一端与地之间的电路上，以及所述线圈的另一端与所述上电极板之间的电路上；

所述开关控制模块，用于选择性地控制所述两个独立开关的导通和断开。

6.根据权利要求4或5所述的反应腔室，其特征在于，所述独立开关包括继电器、二极管或者射频开关。

7.根据权利要求1-5任意一项所述的反应腔室，其特征在于，所述上电极组件还包括电极支撑件，所述电极支撑件和所述上电极板共同封闭所述反应腔室的顶部开口，且所述电极支撑件包括第一支撑部和第二支撑部，其中，

所述第一支撑部呈筒状，且间隔环绕在所述介质筒的内侧；所述线圈位于所述介质筒和所述第一支撑部之间；所述上电极板固定在所述第一支撑部的底部，且与所述第一支撑部电绝缘；

所述第二支撑部呈环形板状，且接地；并且，所述第二支撑部的内边缘与所述第一支撑部的顶部固定连接；所述第二支撑部的外边缘与所述反应腔室的腔室壁固定连接。

8.根据权利要求7所述的反应腔室，其特征在于，所述反应腔室还包括至少一个中心进气口和多个边缘进气口，其中，

所述至少一个中心进气口设置在所述上电极板上，并与所述反应腔室的内部相连通；

所述多个边缘进气口环绕设置在所述第二支撑部上，并与所述反应腔室的内部相连通。

9.根据权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，所述上电极板具有用作匀流腔的空腔；所述至少一个中心进气口设置在所述匀流腔的顶部，用以向所述匀流腔内输送反应气体；

在所述匀流腔的底部设置有多个出气孔，且相对于所述匀流腔的底面均匀分布，用以均匀地将所述匀流腔内的反应气体输送至所述反应腔室内。

10.根据权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，所述反应腔室还包括气源和气体分配装置，其中，

所述气源用于提供反应气体；

所述气体分配装置用于将来自所述气源的反应气体分配至所述中心进气口和/或各个边缘进气口。