[发明专利]选择性去除氮化钛硬掩膜和蚀刻残留物的去除在审
| 申请号： | 201610202293.0 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106010826A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | W·J·小卡斯特尔;稻冈诚二;刘文达;陈天牛 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/38;C11D7/10;C11D7/26;C11D7/08;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 选择性 去除 氮化 钛硬掩膜 蚀刻 残留物 | ||
【说明书】：
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