[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板的制备方 法以及采用该方法制备的显示面板和显示装置。

背景技术

目前，液晶显示屏是使用最广泛的显示屏之一。液晶显示屏 包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板与彩膜 基板之间的液晶层。阵列基板的显示区设置有多个薄膜晶体管， 薄膜晶体管相应连接控制电极，通过控制电极引入扫描信号和数 据信号，以实现液晶偏转的控制，实现光的透过与否和透过量的 控制；为控制电极引入信号的控制电路通常设置于阵列基板的非 显示区。

同时，为了实现液晶初始角度的锚定，彩膜基板和阵列基板 的显示区均分别设置取向层。其中，现有技术中制备阵列基板的 取向层的方法，通常先在基板的显示区涂覆聚酰亚胺材料，然后 采用棉布或纤维布对涂覆的聚酰亚胺材料进行取向，从而形成取 向层。发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

为保证控制电路区域的裸露，通常仅在阵列基板的显示区涂 覆聚酰亚胺材料，然后通过取向工艺形成取向层。然而，由于涂 覆工艺的限制，取向材料在显示区与非显示区交界的区域通常会 出现缺陷，取向后容易因取向材料表面受到损伤而在周边区域产 生明显的摩擦痕(RubbingMura)。取向层的摩擦痕，将导致显 示画面出现波纹，影响显示效果。

因此，设计一种能够使显示面板内的取向层具有较少摩擦痕 甚至不具有摩擦痕，从而提高显示效果的结构或方法，这是目前 亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明针对现有的上述的问题，提供一种显示面板及其制备 方法和显示装置。其中，显示面板的制备方法能够使显示面板中 最终形成的取向层具有较少甚至不具有摩擦痕，从而提高显示效 果。

本发明为解决上述技术问题提供的技术方案为：一种显示面 板的制备方法，包括以下步骤：

在阵列基板上方涂覆取向材料，涂覆的区域包括阵列基板的 显示区和位于显示区外围的电极区；

对取向材料进行取向；

将取向后的阵列基板与取向后的彩膜基板进行对盒；

切割对盒后的阵列基板与彩膜基板，形成显示面板单元，每 一显示面板单元中，阵列基板的电极区未被彩膜基板覆盖；

去除阵列基板的电极区上方覆盖的取向材料，露出电极区。

优选的是，所述在阵列基板上方涂覆取向材料的步骤中，所 述取向材料为聚酰亚胺材料。

优选的是，所述去除阵列基板的电极区上方覆盖的取向材料 的步骤，包括采用离子刻蚀法去除电极区上方覆盖的取向材料， 其中：所述离子刻蚀法的工程参数包括：功率范围：220-280W； Ar流速范围：3-13Lpm；O₂流速范围：0.028-0.035Lpm；处理时 长范围：15-25Sec。

优选的是，所述离子刻蚀法的工程参数采用：功率：220W； Ar流速：7Lpm；O₂流速：0.035Lpm；处理时长：15Sec。

优选的是，所述去除阵列基板的电极区上方覆盖的取向材料 的步骤，包括采用化学刻蚀法刻蚀电极区上方覆盖的取向材料。

优选的是，所述采用化学刻蚀法刻蚀电极区上方覆盖的取向 材料的步骤之前，还包括：采用封胶的方式或吸盘的方式覆盖所 述阵列基板的显示区。

优选的是，所述化学刻蚀法中的刻蚀溶液包含肼类物质或者 氢氧化溶液。

优选的是，所述在阵列基板上方涂覆取向材料的步骤，包括 采用凸版印刷法、喷射印刷法或丝网印刷法中任一种方法涂覆取 向材料。

优选的是，所述对取向材料进行取向的步骤，包括采用摩擦 取向工艺或光取向工艺对取向材料取向。

本发明提供的另一种技术方案：一种显示面板，采用上述任 一种显示面板的制备方法制备，所述阵列基板的电极区未被所述 彩膜基板覆盖。

本发明提供的另一种技术方案：一种显示装置，包括上述显 示面板。