[发明专利]多功能膜、其制作方法及具有其的OLED显示面板有效
申请号: | 201610156632.6 | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN105655500B | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
发明(设计)人: | 李硕;刘雪洲;于甄;陈西宝;丁晓锋;谈俊 | 申请(专利权)人: | 张家港康得新光电材料有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人: | 赵囡囡,梁文惠 |
地址: | 215634 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多功能 制作方法 具有 oled 显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及显示设备领域,具体而言,涉及一种多功能膜、其制作方法及具有其的OLED显示面板。
背景技术
OLED被视为最具有发展前景的下一代显示技术,而柔性OLED器件则更被认为是OLED显示的发展趋势。由于对水汽与氧气十分敏感,OLED器件中使用的有机材料如果暴露在外部环境中很容易就被氧化或结晶化,从而严重影响OLED器件的性能。因此,需要对OLED器件进行有效的封装,使OLED的各功能层不接触大气中的水汽、氧气等成分。
目前,OLED封装保护用cover lens多以玻璃材质为主,虽然封装效果尚可,但严重限制了柔性方面的应用。而柔性封装仍处于开发过程中,多以薄膜封装(Thin Film Encapsulation)为主,且产业化问题较多。
同时,与柔性OLED配合使用的触控膜组也需要开发出来,目前各研发机构或公司已发布的可触控柔性显示样品均为外挂式触控膜组,其中以如图1所示的GFF方式的居多,即在位于柔性衬底101’上的OLED器件103’的一侧通过粘附层粘结第一水氧阻隔膜102’,另一侧依次设置OLED保护层104’和第二水氧阻隔膜105’后,再在第二水氧阻隔膜105’上依次设置触控膜-Y106’,触控膜-X107’和保护盖(cover lens)108’,其中各层之间以粘附层进行粘结,由此可见,由于多层粘附层的存在,使得触控膜组的厚度较大,再与玻璃封装结构进行组合使得OLED显示面板的厚度更大;而触控膜组的各功能层需要利用粘附层进行多次贴合,带来较大的贴合偏差,进而影响成品的良率;此外,由图1所示结构可以看出,OLED器件不在显示结构的中心位置,导致柔性弯折应力较大,进而影响弯折柔性OLED的效果及寿命。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种多功能膜、其制作方法及具有其的OLED显示面板,以解决现有技术中OLED显示面板的OLED器件、触控膜组以及保护盖分开设置导致其工艺流程繁杂和良率低的问题。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种多功能膜,包括:柔性基材层,包括基材主体和接触设置在基材主体的相对表面上的过渡层和硬化保护层,硬化保护层的硬化强度在铅笔硬度5H以上;以及具有阻隔功能的触控膜组,接触设置在过渡层的远离基材主体的表面上。
进一步地,形成上述基材主体的材料为PET、PEN、COP、COC或PI;形成硬化保护层的材料为聚酯类树脂,优选为聚氨酯丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯;形成上述过渡层的材料为聚酯丙烯酸酯或环氧丙烯酸酯,优选形成上述硬化保护层的材料与形成过渡层的材料相同。
进一步地,上述硬化保护层的厚度为1~3μm。
进一步地,上述触控膜组包括:水氧阻隔层,接触设置在过渡层的远离基材主体的表面上;保护层,接触设置在水氧阻隔层的远离柔性基材层的表面上;第一触控功能层,接触设置在保护层的远离水氧阻隔层的表面上;平坦层,接触设置在保护层的远离水氧阻隔层的表面上,并覆盖第一触控功能层;以及第二触控功能层,接触设置在平坦层的远离保护层的表面上。
进一步地,上述触控膜组包括:第一触控功能层,接触设置在过渡层的远离基材主体的表面上;预处理层,接触设置在过渡层的远离基材主体的表面上,并覆盖第一触控功能层;水氧阻隔层,接触设置在预处理层的远离柔性基材层的表面上;平坦层,接触设置在水氧阻隔层的远离预处理层的表面上;以及第二触控功能层,接触设置在平坦层的远离水氧阻隔层的表面上。
进一步地,形成上述水氧阻隔层的材料为Al2O3、TiO2、SiNx、SiO2、HMDSO或聚酯,优选水氧阻隔层的厚度为10nm~5μm。
进一步地,形成上述第一触控功能层和第二触控功能层的材料各自独立地选自ITO、金属网格、纳米银、石墨烯和碳纳米管中的任意一种,优选第一触控功能层的厚度为10nm~1μm,优选第二触控功能层的厚度为10nm~1μm。
进一步地,形成上述保护层的材料为SiNX、SiOX、HMDSO或聚酯,优选保护层的厚度为1~3μm。
进一步地,形成上述预处理层的材料为SiNx、SiOx、HMDSO或聚酯,优选预处理层的厚度为1~3μm。
进一步地,上述多功能膜还包括保护膜,保护膜接触设置在硬化保护层的远离基材主体的表面上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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