[发明专利]一种OLED器件及其制备方法、显示装置

说明书

本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种OLED器件及其制备方法、显示装置，通过在接触绝缘层和第二金属层之间设置有机光阻层，利用有机光阻的高粘度性质来填充接触绝缘层的开裂部分，达到绝缘第一金属层和第二金属层的目的，使像素电路正常工作。且形成该有机光阻层和形成接触绝缘层采用相同的光罩，不产生额外的光罩费用；同时高像素产品制程稳定性增强，进而提高了产品良率。

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种OLED器件及其制备方法、显示装置。

背景技术

有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light emitting diode，简称AMOLED)是一种主要利用有机半导体和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合而发光的的面板。与传统LCD相比，AMOLED显示屏具有响应速度快、广色域、高对比度、自发光及更低功耗的优点。

然而在现有的OLED器件中，在接触绝缘层(Contact Layer，简称CT Layer)形成后，因叠层结构应力释放问题导致接触绝缘层在Hole(通孔)边缘发生开裂的现象，因而无法保持良好绝缘性能，进而导致像素(Pixel)电路实际功能失效，影响产品的性能，这是本领域技术人员所不期望看到的。

发明内容

针对上述存在的问题，本发明公开了一种OLED器件，包括：

第一金属层(Metal Layer-1)；

接触绝缘层，设置在所述第一金属层之上；

第二金属层(Metal Layer-2)，设置在所述接触绝缘层之上；

其中，所述第二金属层和所述接触绝缘层之间还设置有粘性材料层，所述粘性材料层用以当所述接触绝缘层产生裂痕时，由所述粘性材料层填充所述裂痕。

上述的OLED器件，其中，所述粘性材料层包括有机光阻层。

上述的OLED器件，其中，所述有机光阻层的厚度为0.1～2μm。

上述的OLED器件，其中，所述粘性材料层还包括保护膜，且所述保护膜位于所述有机光阻层之上。

上述的OLED器件，其中，所述保护膜的材质为氧化铟锡(ITO)或氧化硅(SiO)。

上述的OLED器件，其中，所述保护膜的厚度为20～50nm。

上述的OLED器件，其中，还包括：

基板；

多晶硅层(poly silicon)，设置于所述基板之上；

绝缘材料层(insulator)，设置于所述多晶硅层和所述第一金属层之间；

其中，所述绝缘材料层中设置有通孔，所述第一金属层通过所述通孔与所述多晶硅层电连接。

本发明还公开了一种OLED器件的制备方法，包括：

提供一基板；

于所述基板之上形成多晶硅层；

于所述多晶硅层之上形成具有通孔的绝缘材料层；

于所述绝缘材料层之上形成第一金属层；

于所述第一金属层之上形成接触绝缘层；

于所述接触绝缘层之上形成粘性材料层，所述粘性材料层用以当所述接触绝缘层产生裂痕时，由所述粘性材料层填充所述裂痕；以及

于所述粘性材料层之上形成第二金属层。