[发明专利]一种显示装置及其制作方法在审
申请号: | 201610077012.3 | 申请日: | 2016-02-03 |
公开(公告)号: | CN105511145A | 公开(公告)日: | 2016-04-20 |
发明(设计)人: | 李文波 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,具体涉及一种显示装置及其制作 方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay, 以下简称为TFT-LCD)包括背光源和显示面板。背光源用于向显示面 板提供光线;显示面板一般包括依次设置的下偏光片、阵列基板、液 晶层、彩膜基板和上偏光片。背光源发出的光线依次穿过下偏光片、 阵列基板、液晶层、彩膜基板和上偏光片,最终实现显示。
由于液晶本身不发光,在液晶显示器、液晶电视等各种液晶显示 设备(LiquidCrystalDisplay,以下简称LCD)中,都需要依靠外部背 光源来实现显示。背光源一般会包括在导光板侧边设置的LED灯条, 该种情况下,生产TFT-LCD时,LED灯条需要外购并组装,并不能 够兼容TFT-LCD的已有设备及工艺完成制作,降低了产线的利用率, 提高了生产成本。
发明内容
针对现有技术中的缺陷,本发明提供了一种显示装置及其制作方 法,实现了兼容TFT-LCD的已有设备及工艺完成制作,提高了产线的 利用率,降低了生产成本。
第一方面,本发明提供一种显示装置,包括:
形成在第一衬底上的背光模组、阵列基板、液晶和彩膜基板,其 中所述背光模组、阵列基板、液晶和彩膜基板为通过溅射工艺形成。
可选的,所述背光模组包括形成在所述第一衬底上的反射板、导 光板、LED、遮光层、胆甾相液晶和四分之一波片;
其中,所述LED位于所述导光板的侧边,所述遮光层在所述第 一衬底上的投影覆盖所述LED在所述第一衬底上的投影,且部分覆 盖所述导光板在所述第一衬底上的投影;
所述胆甾相液晶的螺距旋转方向为左旋,允许右旋圆偏振光透 射,且将左旋圆偏振光反射向所述反射板;或者,所述胆甾相液晶的 螺距旋转方向为右旋,允许左旋圆偏振光透射,且将右旋圆偏振光反 射向所述反射板。
可选的,所述遮光层包括吸光层和/或反光层。
可选的,所述遮光层包括吸光层和反光层,所述吸光层与所述反 光层叠加,且所述反光层靠近所述LED。
可选的,所述LED包括形成在第二衬底上的栅极、栅绝缘层、 有源层源极和漏极,以及形成在所述源极或漏极上的平坦层、预倾向 层、阳极、P型掺杂层、量子阱、N型掺杂层和阴极;
其中,所述阳极通过平坦层上的过孔与所述平坦层覆盖的源极或 漏极相连。
可选的,所述LED包括:形成在第二衬底上的栅极、栅绝缘层、 有源层源极和漏极,以及形成在所述源极或漏极上的平坦层、预倾向 层、阳极、P型掺杂层、量子阱、N型掺杂层和阴极;
其中,所述阳极通过平坦层上的过孔与所述平坦层覆盖的源极或 漏极相连,所述预倾向层、阳极、P型掺杂层、量子阱、N型掺杂层 和阴极的边缘在所述LED的边缘区域与所述栅绝缘层连接。
可选的,所述导光板包括:形成在反射板上的第一基板、第一透 明电极、聚合物分散液晶(PolymerDispersedLiquidCrystal,简称 PDLC)膜、第二透明电极和第二基板。
第二方面,本发明还提供了一种显示装置的制作方法,包括:
在第一衬底上通过溅射工艺形成背光模组;
在所述背光模组上通过溅射工艺形成阵列基板;
在所述阵列基板上通过溅射工艺形成液晶;
在所述液晶上通过溅射工艺形成彩膜基板。
可选的,所述在第一衬底上通过溅射工艺形成背光模组,进一步 包括:
在所述第一衬底上形成反射板;
在所述反射板上形成导光板,在所述导光板的侧边形成LED;
在所述LED上形成遮光层;
在所述遮光层上形成胆甾相液晶;
在所述胆甾相液晶上形成四分之一波片;
其中,所述LED位于所述导光板的侧边,所述遮光层在所述第 一衬底上的投影覆盖所述LED在所述第一衬底上的投影,且部分覆 盖所述导光板在所述第一衬底上的投影;
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