[发明专利]一种铬、铥、钬掺杂钽酸铋发光材料及其晶体生长方法在审
申请号: | 201610069241.0 | 申请日: | 2016-01-28 |
公开(公告)号: | CN105648532A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 张庆礼;林东晖;刘文鹏;孙贵花;罗建乔;彭方;殷绍唐;窦仁勤 | 申请(专利权)人: | 中科九曜科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/30 | 分类号: | C30B29/30;C30B28/02;C30B28/04;C30B28/14;C30B15/00;C30B11/00;C09K11/78 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 程笃庆;黄乐瑜 |
地址: | 231202 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掺杂 钽酸铋 发光 材料 及其 晶体生长 方法 | ||
技术领域
本发明涉及发光材料和晶体生长技术领域,尤其涉及一种铬、铥、钬掺杂钽酸铋发 光材料及其晶体生长方法。
背景技术
在低对称性的晶体中,对于处于低对称性的发光激活离子如稀土离子Ho3+、过渡族 离子Cr3+来说,低对称性有利于解除跃迁宇称禁戒,增强发光效率,同时低对称性晶体有各 向异性物理性质,利用其作为激光工作物质时可直接获得偏振激光。钽酸铋属于三斜晶系, 其中Bi离子的格位对称性为C1,当掺杂激活离子替代Bi离子的格位时,激活离子将占据C1对称格位,且有两种格位,有利于晶场能级分裂加宽及发光跃迁的宇称禁戒解除,提高发光 效率,有望用作荧光和激光材料,在显示、激光技术等领域获得应用。
发明内容
本发明提出了一种铬、铥、钬掺杂钽酸铋发光材料及其晶体生长方法,获得性能优 良的发光材料,有望用于显示和激光技术领域。
本发明提出的一种铬、铥、钬掺杂钽酸铋发光材料,具有以下化学式组成: CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4,其中0<x≤0.2,0.0001≤y≤0.1,0.0001≤z≤0.1。
本发明还提出的上述铬、铥、钬掺杂钽酸铋发光材料的晶体生长方法,包括如下步 骤:
S1、将含铬化合物、含铥化合物、含钬化合物、含铋化合物、含钽化合物混合均匀 后,进行合成反应得到化学式为CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4的多晶原料;
S2、将化学式为CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4的多晶原料进行压制得到生长晶体原料;
S3、将生长晶体原料加热至熔融状态得到晶体生长初始熔体,然后采用熔体法晶 体生长方法进行生长得到铬、铥、钬掺杂钽酸铋发光材料。
优选地,S1中,合成反应为高温固相反应、液相合成或气相合成。
优选地,S1的具体操作如下:按摩尔份将x份Cr2O3、y份Tm2O3、z份Ho2O3、(1-x-y-z) 份Bi2O3和1份Ta2O5混合均匀后,升温至800~1100℃进行固相反应得到化学式为 CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4的多晶原料;
其反应方程式如下:
优选地,S2的具体操作步骤为:将化学式为CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4的多晶原料进行 压制,然后烧结得到生长晶体原料,烧结温度为800~1100℃,烧结时间为10~96h。
优选地,S3中,熔体法晶体生长方法为提拉法、坩埚下降法、温梯法、热交换法、泡 生法、顶部籽晶法、助熔剂晶体生长方法中的一种。
优选地,S3中,当熔体法晶体生长方法为提拉法、坩埚下降法或顶部籽晶法时,采 用籽晶定向生长,籽晶为CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4或BiTaO4单晶。
优选地,籽晶方向为<100>、<010>或<001>方向。
优选地,当铬、铥、钬掺杂钽酸铋发光材料中某种元素的分凝系数为k,k=0.01~1,则其中m为S1中含该元素化合物的质量,n为该元素在CrxTmyHozBi1-x-y-zTaO4中所含物质的量,M为含该元素化合物的摩尔质量。
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