[发明专利]阵列基板和阵列基板的制作方法以及液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种阵列基板和阵列基板的制作方法以及 采用该阵列基板的液晶显示装置。

背景技术

液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)具有画质好、体积小、重量 轻、低驱动电压、低功耗、无辐射和制造成本相对较低的有点，目前在平板显示领 域占主导地位。

图1示出了现有的一种液晶显示装置的剖视图，如图所示，包括阵列基板10’、 与阵列基板10’相对设置的彩色滤光基板20’以及夹置在阵列基板10’和彩色滤光基 板20’之间的液晶层30’。彩色滤光基板20’包括面向阵列基板表面的第二透明基板 201’、彩色滤光膜202’、第二公共电极203’和第二平坦层204’。阵列基板10’包括第 一透明基板101’，位于第一透明基板101’上的栅极102’，覆盖栅极102’以及整个第 一透明基板101’的栅极绝缘层103’，形成于栅极绝缘层103’上的有源层104’，位于 有源层104’上的源极105’和漏极106’，覆盖栅极绝缘层103’、有源层104’、源极105’ 和漏极106’的第一钝化层1091’，覆盖第一钝化层1091’的第一平坦层107’，形成于 第一平坦层107’上的第一公共电极110’，覆盖第一公共电极110’和第一平坦层107’ 的第二钝化层1092’以及形成于第二钝化层1092’上的像素电极108’，还设置有导通 孔111’，导通孔111’依次穿过第二钝化层1092’、第一平坦层107’和第一钝化层 1091’，像素电极108’穿过导通孔111’与源/漏极连接。此种结构的液晶显示装置由 于导通孔111’的存在占据了大部分开口区面积，降低开口率，影响穿透率。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种功耗低、开口率高的阵列基板。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种阵列基板，包括：

第一透明基板；

位于所述第一透明基板上的栅极；

覆盖所述栅极以及整个第一透明基板的第一绝缘层；

形成于所述第一绝缘层上的有源层，所述有源层与所述栅极位置对应；

位于有源层上的源极和漏极；

位于所述第一绝缘层、源极、漏极以及有源层之上的第二绝缘层；

形成在所述第二绝缘层上的像素电极，所述像素电极与所述源极相连，所述第 二绝缘层上设置有开口，在所述第二绝缘层中至少所述像素电极与所述源极的连接 处以及所述源极与漏极之间的沟道位置经所述开口露出；

覆盖在所述像素电极、源极、漏极、有源层以及第二绝缘层上的钝化层；

形成在钝化层上的公共电极。

优选地，在所述第二绝缘层中，所述源极、漏极以及有源层均经所述开口露出。

优选地，所述钝化层与所述沟道相接触且将所述沟道覆盖。

优选地，所述像素电极的端部搭接于所述源极的端部之上。

优选地，所述第二绝缘层的厚度为至

另一方面，本发明还提供了一种阵列基板的制作方法，制成的阵列基板功耗低、 开口率高。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种阵列基板的制作方法，包括：

提供第一透明基板，在所述第一透明基板上形成栅极金属层，并刻蚀形成栅极 和扫描线；

形成覆盖在所述栅极金属层和所述第一透明基板上的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层表面形成有源层，所述有源层与所述栅极相对应；

形成覆盖所述有源层的数据线金属层，刻蚀所述数据线金属层，形成源极、漏 极和数据线；

形成覆盖在第一绝缘层、源极、漏极以及有源层之上的第二绝缘层，在第二绝 缘层上形成开口，使得所述第二绝缘层中至少所述源极的部分结构以及所述源极与 漏极之间的沟道位置经所述开口露出；

在所述第二绝缘层表面形成像素电极，并使得所述像素电极与所述源极的露出 部分连接；

形成覆盖所述数据线金属层、所述像素电极、所述有源层以及所述第二绝缘层 的钝化层；

在所述钝化层上形成公共电极。

优选地，形成于所述第二绝缘层上的所述开口使得所述源极、漏极以及有源层 露出。

优选地，所述第二绝缘层为平坦层，采用有机绝缘材料。