[发明专利]一种大尺寸AMOLED显示基板及其制作方法

说明书

本发明涉及一种AMOLED及其制作方法。所述AMOLED的制作工艺包括如下步骤：1)在基底上表面形成TFT器件；2)在基底下表面形成功能层；3)由TFT器件和功能层组成蒸镀基板，将蒸镀基板的功能层一侧贴附在承载基台上；4)将贴附在承载基台上的蒸镀基板通过蒸镀设备，蒸镀处理后在器件表面形成有机电致发光材料层；5)在封装基台上进行封装，形成保护层；6)移除封装基台，得到AMOLED显示基板。本发明通过溶液制程法将纳米磁性无机物制作在基板背面，使基板具有磁性，改善了大尺寸AMOLED基板与Mask贴附方式，提升了工艺良率；通过改善纳米磁性无机物在基板上的图案化设计，减小基板在生产过程中产生的静电，从而减少静电积累放电对TFT电路及AMOLED性能的影响。

技术领域

本发明涉及一种大尺寸AMOLED显示基板及其制备方法，涉及有机电致发光器件蒸镀技术及工艺方法。

背景技术

OLED即有机发光二极管，又称为有机电激光显示。OLED具有自发光的特性，且OLED显示屏幕可视角度大，能够节省电流，得到广泛应用。随着人们对OLED需求日益增加，对OLED的工艺要求也越来越高。

目前大尺寸AMOLED产品(如TV)主要采用白光和彩膜共同作用的方式发光，此发光方式只用Open Mask蒸镀，并且根据蒸镀工艺特点，一般使用In-line结构的蒸镀设备来降低设备成本。

In-Line设备的特点决定了在进行AMOLED显示基板的有机发光材料层蒸镀时，需要将Mask和基板贴附在一起进行移动并完成蒸镀；而大尺寸基板的特点决定了玻璃基板在贴附和转运过程中容易发生弯曲变形，导致蒸镀工艺不良影响，因此有必要采取措施克服大尺寸AMOLED显示基板在贴附和转运过程中因弯曲变形而导致的各种工艺不良的缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种大尺寸AMOLED显示基板的制作方法，以期有效提高工艺良率和生产效率，减少静电积累放电对TFT电路及AMOLED显示基板性能的影响，提升AMOLED显示基板的性能。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种AMOLED显示基板的制作方法，包括如下步骤：

1)在基底100上表面形成TFT器件101；

2)在基底100下表面形成功能层102；

3)由TFT器件101和功能层102组成蒸镀基板，将蒸镀基板的功能层102一侧贴附在承载基台103上；

4)将贴附在承载基台103上的蒸镀基板通过蒸镀设备中的In-Line装置，蒸镀处理后在器件101表面形成有机电致发光材料层104；

5)在封装基台105上对有机电致发光材料层104进行封装，形成保护层106；

6)移除封装基台105，得到AMOLED显示基板。

本发明所述AMOLED显示基板的制作方法中，步骤1)中，所述基底材料可选用本领域常规基底材料，如玻璃、聚酰亚胺、环氧树脂等材料。

本发明所述AMOLED显示基板的制作方法中，步骤2)中，所述功能层的制备包括如下步骤：

S21、通过涂布工艺或者旋涂工艺在基底下表面形成硅氧烷材料层1021；

S22、将磁性纤蛇纹石纳米管材料1022分散在溶剂中，通过溶液制程法在硅氧烷材料层1021上形成图案化，再对硅氧烷材料层1021进行低温固化成型，形成功能层102。

在步骤S21中，所述硅氧烷材料层的材质选自聚二甲基硅氧烷或聚二甲基硅氧烷的改性聚合物。

在步骤S22中，所述溶剂为乙醇溶液或水。