[发明专利]彩膜基板的制作方法在审
| 申请号： | 201610019265.5 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN105629559A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 赵国涛 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制作方法 | ||
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供基板(10)，设定所述基板(10)上相对两侧的两表面分别 为第一表面(11)和第二表面(12)，在所述基板(10)的第一表面(11) 上形成金属材料的保护膜(20)；
步骤2、将基板(10)放置于承载台(100)上，此时，第一表面(11) 面向承载台(100)，第一表面(11)上的保护膜(20)与承载台(100)相 接触，在基板(10)的第二表面(12)上形成黑色矩阵(30)、色阻层 (40)、及外敷层(50)；
步骤3、提供酸性溶液，将第一表面(11)上的保护膜(20)清除掉；
步骤4、提供薄化液，利用薄化液从基板(10)的第一表面(11)对基板 (10)进行薄化，得到彩膜基板。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述保护膜 (20)包括依次形成于所述第一表面(11)上的第一保护层(21)、及第二保 护层(22)。
3.如权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一保 护层(21)的材料为铝，所述第二保护层(22)的材料为铁。
4.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述保护膜 (20)通过物理气相沉积工艺形成。
5.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述酸性溶 液为盐酸溶液。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板 (10)为玻璃基板。
7.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述薄化液 为氢氟酸溶液。
8.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2 中，还包括在基板(10)的第二表面(12)上形成公共电极层、及聚酰亚胺 层。
9.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层 (40)包括红色色阻层、绿色色阻层、及蓝色色阻层。
10.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基 板用于尺寸大于8.6寸的显示面板。
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