[发明专利]洗衣组合物成分

权利要求书

1.具有接枝到其上的阴离子官能硅酮的多糖，其中所述硅酮具有至少一个残留的阴离子基团，且其中所述多糖选自聚甘露糖、葡甘露聚糖、半乳甘露聚糖和木葡聚糖多糖。

2.根据权利要求1所述的多糖，其中所述多糖是半乳甘露聚糖和/或木葡聚糖。

3.根据权利要求1所述的多糖，其中所述多糖是非离子多糖或阳离子多糖。

4.根据权利要求1所述的多糖，其中所述阴离子官能硅酮包含羧酸根、硫酸根、磺酸根、磷酸根和/或膦酸根官能团。

5.根据权利要求1所述的多糖，其中所述阴离子官能硅酮是羧基官能化的硅酮。

6.根据权利要求1所述的多糖，其中一旦接枝后所述阴离子硅酮具有至少0.1mol％的阴离子基团含量。

7.根据权利要求6所述的多糖，其中一旦接枝后所述阴离子硅酮具有至少0.5mol％的阴离子基团含量。

8.根据权利要求6所述的多糖，其中一旦接枝后所述阴离子硅酮具有至少1mol％的阴离子基团含量。

9.根据权利要求6所述的多糖，其中一旦接枝后所述阴离子硅酮具有至少2mol％的阴离子基团含量。

10.根据权利要求1所述的多糖，其中所述多糖是具有接枝到其上的硅酮的半乳甘露聚糖和/或木葡聚糖，其中所述硅酮在接枝后具有至少1个羧基。

11.根据权利要求10所述的多糖，其中所述硅酮在接枝后具有至少2个羧基。

12.一种洗衣处理组合物，其包含：

a)1-40重量％的表面活性剂，其包含阴离子表面活性剂和任选的非离子表面活性剂；和

b)0.05-10重量％的具有接枝到其上的阴离子官能硅酮的多糖，其中所述硅酮具有至少一个残留的阴离子基团，所述多糖选自聚甘露糖、葡甘露聚糖、半乳甘露聚糖和木葡聚糖多糖。

13.根据权利要求12所述的洗衣处理组合物，其中所述多糖是根据权利要求2-11中任一项所述的多糖。

14.根据权利要求12所述的洗衣处理组合物，其为主洗衣物洗涤剂的形式。

15.根据权利要求12所述的洗衣处理组合物，其中所述洗衣处理组合物包含2.5-25重量％的阴离子表面活性剂。

16.根据权利要求12所述的洗衣处理组合物，其中所述洗衣处理组合物包含4-20重量％的阴离子表面活性剂。

17.根据权利要求15所述的洗衣处理组合物，其中所述洗衣处理组合物另外包含0.5-25重量％的非离子表面活性剂，以及任选的脂肪酸或其皂。

18.根据权利要求15所述的洗衣处理组合物，其中所述洗衣处理组合物另外包含2.5-15重量％的非离子表面活性剂，以及任选的脂肪酸或其皂。

19.根据权利要求12-18中任一项所述的洗衣处理组合物，其中所述洗衣处理制剂含有0.05-2.5重量％的阳离子聚合物。

20.根据权利要求19所述的洗衣处理组合物，其中所述阳离子聚合物为阳离子多糖。

21.根据权利要求19所述的洗衣处理组合物，其中所述阳离子聚合物为阳离子纤维素聚合物。