[发明专利]被提供有具有热性质和金属末端层的堆叠体的基材

说明书

本发明涉及在一个面(11)上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体(14)的基材(10)，这种堆叠体包含至少一个金属功能层(140)，特别地基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层(120,160)，所述涂层每个包括至少一个电介质层(122,164)，所述功能层(140)被设置于两个抗反射涂层(120,160)之间，所述堆叠体还包含末端层(168)，所述末端层是所述堆叠体的离所述面(11)最远的层，特征在于所述末端层(168)是由锌和锡构成的金属层，其由Sn_xZn_y制成，其中比率为0.1≤x/y≤2.4，并且具有在0.5nm至5.0nm之间的物理厚度，排除端值，甚至0.6nm至2.7nm之间的物理厚度，排除端值。

本发明涉及一种在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体的基材，该堆叠体包含至少一个金属功能层，特别是基于银或基于含银金属合金的功能层，以及至少两个抗反射涂层，所述涂层每个包含至少一个电介质层，所述功能层被设置于两个抗反射涂层之间，所述堆叠体还包含末端层，该末端层是该堆叠体的离所述面最远的层。

在这种类型的堆叠体中，功能层因此被设置在两个抗反射涂层之间，每个抗反射涂层通常包括多个层，所述层中的每个由氮化物类型的电介质材料，特别是氮化硅或氮化铝，或者氧化物制成。从光学角度来看，这些围绕所述一个或多个金属功能层的涂层的目的是使该金属功能层“抗反射”。

然而，阻挡涂层有时被插入在一个或每个抗反射涂层和金属功能层之间；设置于功能层下方(在基材的方向上)的阻挡涂层在任选的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间保护功能层，和设置于功能层上方(在与基材相反的一侧上)的阻挡涂层在上抗反射涂层的沉积期间以及在任选的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间保护该功能层免受任何降解。

本发明更特别地涉及在堆叠体的末端层(最远离该基材的面(在该面上沉积了堆叠体)的层)的用途，以及借助于产生辐射，特别地红外辐射的源来实施对整个薄层堆叠体的处理。

特别是从国际专利申请WO2010/142926已知，提供吸收层作为堆叠体的末端层，并且在沉积堆叠体之后施加处理以便降低发射率或改善低发射性堆叠体的光学性能。金属末端层的使用允许提高吸收并降低处理所需的功率。当末端层在处理期间氧化并变得透明时，处理之后的堆叠体的光学特性是有利的(特别地可以获得高的光透射率)。

然而，由于用于该处理的源的不均匀性和/或输送系统的缺陷(其速度从不是完全恒定的)，这种解决方案对于某些应用不能是完全令人满意的。

这体现为眼睛可察觉的光学不均匀性(光透射/反射的变化以及从一个点到另一个点的颜色变化)。

本发明的目的是通过开发一种具有一个或多个功能层的新型层堆叠体来克服现有技术的缺点，该堆叠体在处理后具有低的薄层电阻(因此具有低发射率)、高光透射率，以及外观的均匀性。

另一个重要的目的是允许在透射和反射中获得更加均匀的外观。

因此，本发明的一个主题，在其最宽的意义中，是根据权利要求1的在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体的基材。这种堆叠体包含至少一个金属功能层，特别地基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层，所述涂层每个包括至少一个电介质层，所述功能层被设置于两个抗反射涂层之间，所述堆叠体还包含末端层，所述末端层是所述堆叠体的离所述面最远的层。涂覆有堆叠体的基材值得注意的是所述末端层是由锌和锡构成的金属层，由Sn_xZn_y制成，其中比率为0.1≤x/y≤2.4，并且具有在0.5nm至5.0nm之间的物理厚度，排除端值，甚至在0.6nm至2.7nm之间的物理厚度，排除端值。

通常，术语“电介质层”在本发明的意义中应被理解为从其性质的角度来看，该层的材料是“非金属的”，即不是金属。在本发明的上下文中，该术语表示在整个可见光的波长范围(380nm至780nm)中具有等于或大于5的n/k比的材料。