[发明专利]被提供有具有热性质和金属末端层的堆叠体的基材有效
申请号: | 201580053114.5 | 申请日: | 2015-09-29 |
公开(公告)号: | CN106715350B | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | S.布罗萨尔;N.梅卡迪耶;R.伊里比;B.库恩;L.卡诺瓦 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提供 具有 性质 金属 末端 堆叠 基材 | ||
1.在一个面(11)上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体(14)的基材(10),这种堆叠体包含至少一个基于银或基于含银金属合金的金属功能层(140),和至少两个抗反射涂层(120,160),所述涂层每个包括至少一个电介质层(122,164),所述功能层(140)被设置于两个抗反射涂层(120,160)之间,所述堆叠体还包含末端层(168),所述末端层是所述堆叠体的离所述面(11)最远的层,特征在于所述末端层(168)是由锌和锡构成的金属层,其由SnxZny制成,其中具有为0.55≤x/y≤0.83的比率,并具有在0.5nm至5.0nm之间的物理厚度,排除端值。
2.根据权利要求1所述的基材(10),其特征在于,所述末端层(168)直接位于基于氮化硅并且不包含氧的电介质层的上方。
3.根据权利要求2所述的基材(10),其特征在于,所述基于氮化硅的电介质层具有在10至50nm之间的物理厚度。
4.根据权利要求2所述的基材(10),其特征在于,位于与所述面(11)相反的一侧上在所述金属功能层(140)的上方的所述抗反射涂层(160)包含高折射指数电介质层(164),其由具有在2.3至2.7之间的折射指数的材料制成。
5.根据权利要求4所述的基材(10),其特征在于该高折射指数电介质层(164)基于氧化物。
6.根据权利要求4或5所述的基材(10),其特征在于,所述高折射指数层(164)具有在5至15nm之间的物理厚度。
7.根据权利要求1-2任一项所述的基材(10),其特征在于,所述末端层(168)具有在0.6nm至2.7nm之间的物理厚度,排除端值。
8.多层窗玻璃,其包含至少两个通过框架结构(90)保持在一起的基材(10,30),所述窗玻璃实现在外部空间(ES)和内部空间(IS)之间的分隔,其中使至少一个中间气体腔(15)设置于两个基材之间,基材(10)是如权利要求1至7中任一项所述的基材。
9.一种用于获得基材(10)的方法,该基材在一个面(11)上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体(14),该薄层堆叠体包含至少一个基于银或基于含银金属合金的金属功能层(140),和两个抗反射涂层(120,160),该方法以如下顺序包括以下步骤:
-在所述基材(10)的一个面(11)上沉积根据权利要求1-7任一项的在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层叠堆体(14),该薄层叠堆体包含至少一个基于银或基于含银金属合金的金属功能层(140),和至少两个抗反射涂层(120,160);然后
-在包含氧的气氛下,借助于产生辐射的源来处理所述薄层堆叠体(14),所述末端层(168)的x/y比在所述处理之前和之后是相同的。
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