[发明专利]一种利用相分离技术制备纳米图案化蓝宝石衬底的方法在审
申请号: | 201510932217.0 | 申请日: | 2015-12-15 |
公开(公告)号: | CN105355745A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 葛海雄;郭旭;袁长胜;崔玉双;陈延峰 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L21/02;B82Y40/00 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 李媛媛 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 分离 技术 制备 纳米 图案 蓝宝石 衬底 方法 | ||
1.一种利用相分离技术制备纳米图案化蓝宝石衬底的方法,其特征在于,具体步骤如下:
(a)将一定质量比的聚苯乙烯和聚乙二醇溶解于甲苯中,得到质量分数为3%~6%的聚苯乙烯/聚乙二醇/甲苯的共混溶液A;
(b)将共混溶液A以一定转速旋涂于蓝宝石衬底上,在去离子水中浸泡5秒,然后用N2吹干得到样品B;
(c)将上述样品B放入反应离子刻蚀中进行刻蚀,去除聚苯乙烯残余层,得到样品C;
(d)利用电子束蒸发镀膜在上述样品C上沉积50nm厚度的金属镍,然后在氯苯中进行举离,时间为1-10分钟,得到金属Ni的纳米阵列结构;
(e)以金属Ni的纳米阵列结构为刻蚀掩模,在感应耦合等离子刻蚀设备中刻蚀蓝宝石衬底,刻蚀深度为50nm-400nm,多余的Ni掩模以稀硝酸洗去,得到纳米图案化蓝宝石衬底。
2.如权利要求1所述的一种利用相分离技术制备纳米图案化蓝宝石衬底的方法,其特征在于,所述步骤(a)中,聚苯乙烯和聚乙二醇的质量比为2:1~5。
3.如权利要求1所述的一种利用相分离技术制备纳米图案化蓝宝石衬底的方法,其特征在于,所述步骤(b)中,转速为2000-8000转/分钟。
4.如权利要求1所述的一种利用相分离技术制备纳米图案化蓝宝石衬底的方法,其特征在于,所述步骤(d)中,金属Ni的纳米阵列结构为无序结构,其直径分布于100nm至700nm之间。
5.如权利要求1所述的一种利用相分离技术制备纳米图案化蓝宝石衬底的方法,其特征在于,所述步骤(e)中,得到的纳米图案化蓝宝石衬底的表面结构为圆锥状或圆台状。
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