[发明专利]液晶显示面板的制作方法和液晶显示面板在审
申请号: | 201510727490.X | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN105242445A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 黄世帅 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 张少辉;刘华联 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 制作方法 | ||
1.一种液晶显示面板的制作方法,包括:
在第一基板上涂覆一定厚度的黑矩阵层;
对所述黑矩阵层的位于所述第一基板的边缘处的部分进行处理,以在所述第一基板边缘处形成具有沟槽的黑矩阵挡墙。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述黑矩阵挡墙的沟槽由多个凸部和位于相邻所述凸部之间的凹部形成。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述黑矩阵挡墙的凸部和凹部将所述黑矩阵挡墙构造成条纹状。
4.根据权利要求2所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述黑矩阵挡墙的凸部和凹部将所述黑矩阵挡墙构造成网格状。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述黑矩阵挡墙的制作步骤包括:
在黑矩阵层上涂覆光刻胶层;
采用半曝光技术的相应光罩对所述光刻胶层进行曝光以得到所需的黑矩阵挡墙的掩膜图形;
对所述光刻胶层上的掩膜图形进行显影;
继续对所述光刻胶层进行蚀刻以得到所需的黑矩阵挡墙。
6.根据权利要求5所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述蚀刻的方法采用离子束蚀刻的方法。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,还包括对所述黑矩阵层的位于所述第一基板其他区域的部分进行去除,以使所述黑矩阵层的位于所述第一基板的边缘处的部分的厚度大于所述黑矩阵层的位于所述第一基板其他区域的厚度。
8.根据权利要求2至4中任一项所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,还包括在各所述凸部上继续形成一定厚度的支撑层。
9.一种由权利要求1至8中任一项所述的液晶显示面板的制作方法制成的液晶显示面板,包括第一基板,所述第一基板的边缘位置设置有具有沟槽的黑矩阵挡墙。
10.根据权利要求9所述的液晶显示面板,其特征在于,所述液晶显示面板还包括与所述第一基板相对设置的第二基板,所述黑矩阵挡墙不与所述第二基板相接触。
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