[发明专利]显示器及其制作方法

说明书

技术领域

本申请涉及电子技术领域，具体涉及显示设备领域，尤其涉及一种显示器及该显示器的制作方法。

背景技术

随着终端设备的普及，应用于终端设备上的各种显示技术也不断发展。除了普遍使用的液晶显示器之外，现有技术中还存在有其他非液晶显示器。

现有技术中的一种显示器可以在像素区上设置一个形变层，并通过控制电压来改变形变层对像素区的覆盖面积，从而实现了对像素区透光率的控制。这种显示器虽然无需采用液晶材料，相对于传统的液晶显示器，结构上要简单许多。但是，在其像素区上仍然需要依次制作参考电位层，绝缘层和形变层等结构，制作工艺还是较为复杂，成本较高。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望能够提供一种结构简单的显示方案。为了实现上述一个或多个目的，本申请实施例提供了一种显示器及该显示器的制作方法。

第一方面，本申请实施例提供了一种显示器，该显示器包括：

相对设置的TFT基板以及彩膜基板，所述TFT基板包括：呈阵列排布的多个像素单元，每个所述像素单元均包括一个第一TFT元件以及一个第二TFT元件，所述像素单元中所述第一TFT元件与第二TFT元件之外的透光区域为显示区；

设置在所述TFT基板朝向所述彩膜基板一侧表面的透明参考电位层，所述透明参考电位层位于所述显示区之上；设置在所述参考电位层上的不透明形变层，所述形变层的表面覆盖有氧化层，所述氧化层用于将所述形变层与所述参考电位层绝缘；

其中，所述第一TFT元件的输出电极与所述参考电位层电连接；所述第二TFT元件的输出电极与所述形变层电连接；所述形变层用于根据其与所述参考电位层的电压差，以其与所述TFT基板的连接部分为轴发生与所述电压差对应程度的弹性形变，以改变所述形变层对所述显示区的覆盖面积。

第二方面，本申请实施例提供了一种显示器的制作方法，该方法包括：

提供TFT基板，所述TFT基板包括：多个第一TFT元件、多个第二TFT元件以及覆盖于所述第一TFT元件和所述第二TFT元件之上的透明平坦层；

在所述透明平坦层内形成与所述第一TFT元件的输出电极贯通的第一通孔以及与所述第二TFT元件的输出电极贯通的第二通孔；

在所述透明平坦层之上形成参考电位层，所述参考电位层通过所述第一通孔与所述第一TFT元件的输出电极电连接；

在所述参考电位层上形成形变层，所述形变层通过所述第二通孔与所述第二TFT元件的输出电极电连接；

在所述形变层的表面形成氧化层，所述氧化层用于将所述形变层与所述参考电位层绝缘；

提供一彩膜基板，将所述彩膜基板与所述TFT基板贴合，所述形变层以及参考电位层位于所述彩膜基板与所述TFT基板之间；

其中，所述形变层能够以其与所述TFT基板的连接部分为轴发生不同程度的弹性形变，以改变其对所述第一TFT元件与所述笫二TFT元件之外的显示区的覆盖面积。

本申请实施例提供的显示器及其制作方法，首先可以在TFT基板和彩膜基板之间设置参考电位层和形变层，并在形变层表面形成氧化层，以使其与参考电位层绝缘。然后可以通过参考电位层和形变层之间的电压差来使得形变层发生弹性形变，从而改变其对显示区的覆盖面积，以实现对显示区出射光线的控制。由于本申请实施例中的显示器结构较为简单，不需要在参考电位层和形变层之间设置额外的绝缘层，也不需要液晶显示器中的配向膜、偏光片等结构，因此在工艺流程上易于实现，制作成本低。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1是本申请显示器的一个实施例的结构示意图；

图2是本申请实施例中一个像素单元的电路结构示意图；

图3是本申请实施例提供的一种显示器的显示原理示意图；

图4-图7是本申请实施例提供的一种显示器的制作方法的工艺流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与有关发明相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。