[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

液晶显示器由于零辐射、低功耗、散热小、体积小、图像还原精确、字符显示锐利等优点，已广泛替代了传统CRT显示装置。

液晶显示器主要包括彩膜基板、阵列基板以及夹设于二者之间液晶，为了维持液晶显示器中彩膜基板与阵列基板之间的盒厚，通常需要设置隔垫物。如图1所示，液晶显示器在彩膜基板20设置柱形的主隔垫物4和副隔垫物5，在阵列基板10的上形成与上述主、副隔垫物相对应的第一凹槽14和第二凹槽15，用以防止两基板间的滑移以免产生漏光、色不均等不良，但该方案中形成上述凹槽(第一凹槽14和第二凹槽15)需要额外增加一次有机膜11及保护膜12的光刻工序(包括镀膜、曝光、显影以及有机膜灰化等工序)，增加了生产成本以及工艺时间；此外，上述凹槽位置的高度低于像素区高度，一旦外力较大时，隔垫物容易滑移出凹槽，划伤阵列基板侧的配向膜，导致局部配向异常，引起显示异常(mura)。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，解决了现有隔垫物容易滑移出凹槽引发显示不良的问题，并且不会因此额外增加工序。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，本发明的实施例提供一种显示基板，所述显示基板上还设置有：与隔垫物对应用于嵌套隔垫物的凹槽，所述凹槽由光刻胶形成，且所述凹槽的底面高出所述显示基板上像素区的高度。

优选地，所述凹槽利用所述显示基板制作过程中最后一道光刻工序中使用的光刻胶形成。

可选地，所述显示基板为阵列基板，所述凹槽位于阵列基板的最上一层透明导电层之上，用于嵌套彩膜基板上的隔垫物。

可选地，所述显示基板为彩膜基板，所述凹槽位于彩膜基板的最上一层彩色滤光层之上，用于嵌套阵列基板上的隔垫物。

可选地，所述隔垫物包括多种隔垫物，所述凹槽至少与其中一种隔垫物相对应。

可选地，所述隔垫物包括：用以维持盒厚的主隔垫物，所述凹槽包括与所述主隔垫物对应的第一凹槽。

可选地，所述第一凹槽位于阵列基板上栅线的分布区域，且所述第一凹槽内设置有隔垫物枕。

可选地，所述隔垫物还包括：副隔垫物，所述凹槽包括与所述副隔垫物对应的第二凹槽。

可选地，所述第二凹槽位于阵列基板上栅线的分布区域以及薄膜晶体管的对应区域。

可选地，所述主隔垫物的高度等于所述副隔垫物的高度，所述第一凹槽的深度小于所述第二凹槽的深度；或者，所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度，所述第一凹槽的深度等于所述第二凹槽的深度。

优选地，所述隔垫物为下宽上窄的柱状结构，与所述隔垫物对应的所述凹槽为上宽下窄的结构。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括：上述任一项所述的显示基板。

另一方面，本发明实施例还提供一种显示基板的制备方法，包括：利用光刻工序中使用的光刻胶形成与隔垫物对应用于嵌套隔垫物的凹槽，所述凹槽的底面高出所述显示基板上像素区的高度。

可选地，所述利用光刻工序中使用的光刻胶形成与隔垫物对应的凹槽，具体为：在显示基板的最后一道光刻工序中，利用所述光刻工序中使用的光刻胶同步形成与隔垫物对应的凹槽。

优选地，所述显示基板为阵列基板，在阵列基板的最后一道形成透明电极的光刻工序中，通过半透膜掩膜工艺、灰化工艺，利用光刻胶同步形成与隔垫物对应的凹槽。

进一步地，所述制备方法，还包括：形成所述凹槽后，对形成的所述凹槽进行固化。

本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，在显示基板上设置有与隔垫物对应的凹槽，显示基板与相对的基板对盒后隔垫物置于该凹槽内，可有效防止两基板间发生滑移而产生的不良；并且，凹槽的底面高出显示基板上像素区的高度，即便外力较大隔垫物滑移出凹槽也不会划伤配向膜，避免了因此导致的局部配向异常；另外，可通过在凹槽预设位置保留显示基板光刻工序中使用的光刻胶来同步形成凹槽，无需额外增加工艺。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术中液晶显示器的截面结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示基板的截面结构示意图；