[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板上还设置有：

与隔垫物对应用于嵌套隔垫物的凹槽，所述凹槽由光刻胶形成，且所述凹槽的底面高出所述显示基板上像素区的高度。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽利用所述显示基板制作过程中最后一道光刻工序中使用的光刻胶形成。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板，所述凹槽位于阵列基板的最上一层透明导电层之上，用于嵌套彩膜基板上的隔垫物。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，所述凹槽位于彩膜基板的最上一层彩色滤光层之上，用于嵌套阵列基板上的隔垫物。

5.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物包括多种隔垫物，所述凹槽至少与其中一种隔垫物的至少一个相对应。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物包括：用以维持盒厚的主隔垫物，所述凹槽包括与至少一个所述主隔垫物对应的第一凹槽。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一凹槽位于阵列基板上栅线的分布区域，且所述第一凹槽内设置有隔垫物枕。

8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物还包括：副隔垫物，所述凹槽包括与至少一个所述副隔垫物对应的第二凹槽。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述第二凹槽位于阵列基板上栅线的分布区域以及薄膜晶体管的对应区域。

10.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述主隔垫物的高度等于所述副隔垫物的高度，所述第一凹槽的深度小于所述第二凹槽的深度；或者，所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度，所述第一凹槽的深度等于所述第二凹槽的深度。

11.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物安装于所述凹槽内时，所述隔垫物与所述凹槽的槽壁之间存在空隙。

12.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物为下宽上窄的柱状结构，与所述隔垫物对应的所述凹槽为上宽下窄的结构。

13.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1-12任一项所述的显示基板。

14.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：利用光刻工序中使用的光刻胶形成与隔垫物对应用于嵌套隔垫物的凹槽，所述凹槽的底面高出所述显示基板上像素区的高度。

15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于，所述利用光刻工序中使用的光刻胶形成与隔垫物对应的凹槽，具体为：

在显示基板的最后一道光刻工序中，利用所述光刻工序中使用的光刻胶同步形成与隔垫物对应的凹槽。

16.根据权利要求15所述的制备方法，其特征在于，所述显示基板为阵列基板，在阵列基板的最后一道形成透明电极的光刻工序中，通过半透膜掩膜工艺、灰化工艺，利用光刻胶同步形成与隔垫物对应的凹槽。

17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，还包括：形成所述凹槽后，对形成的所述凹槽进行固化。