[发明专利]一种转印板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201510428246.3 申请日: 2015-07-20
公开(公告)号: CN104965352B 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 王炎 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 转印板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种用于形成配向膜的转印板,所述转印板包括基板以及设置在所述基板上的多个凸起的网点结构;其特征在于,至少一个所述网点结构的顶端设置有凹槽结构,所述凹槽结构用于盛放配向液,当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时,所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中形成配向膜。

2.如权利要求1所述的转印板,其特征在于,所述凹槽结构的剖面结构的形状为矩形、梯形或三角形。

3.如权利要求2所述的转印板,其特征在于,所述凹槽结构的剖面结构的形状为梯形时,所述梯形的上底边为5-15μm,所述梯形的下底边为2-5μm。

4.如权利要求3所述的转印板,其特征在于,所述凹槽结构在垂直于基底方向上的高度为5-10μm。

5.如权利要求1所述的转印板,其特征在于,所述网点结构采用树脂材料形成。

6.一种转印板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:在基板上形成多个凸起的网点结构,以及在其中至少一个所述网点结构的顶端形成凹槽结构;所述凹槽结构用于盛放配向液,当待配向的显示基板中的过孔被所述网点结构覆盖时,所述凹槽结构中的配向液在所述过孔中形成配向膜。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,利用构图工艺形成的所述凹槽结构的剖面结构的形状为矩形、梯形或三角形。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,形成的所述凹槽结构的剖面结构的形状为梯形时,所述梯形的上底边为5-15μm,所述梯形的下底边为2-5μm。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,形成的所述凹槽结构在垂直于基底方向上的高度为5-10μm。

10.如权利要求6所述的方法,其特征在于,采用树脂材料形成所述网点结构。

11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,形成所述转印板的方法具体包括:

在所述基板上涂覆树脂材料,形成树脂材料层;

在所述树脂材料层上涂覆一层正性光刻胶;

利用包括分别与所述网点结构和凹槽结构对应的完全遮挡区域图案与半遮挡区域图案的掩膜板,通过构图工艺形成包括所述凹槽结构的网点结构。

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