[发明专利]一种应用于三维显示器的图形反射结构及其制作方法

权利要求书

1.一种应用于三维显示器的图形反射结构，设置于背光源和穿透式显示屏之间，其特征在于，所述图形反射结构包括透过区域和反射区域，所述反射区域用于将所述背光源发出的部分光反射回所述背光源，所述透过区域用于将所述背光源发出的部分光投射到所述穿透式显示屏，所述透过区域与所述反射区域依次交替排列；

所述反射区域设置有反射层和吸收层，所述反射层设置在所述图形反射结构靠近所述背光源的一侧，所述吸收层设置在所述图形反射结构靠近所述穿透式显示屏的一面上，用于吸收所述穿透式显示屏反射回所述图形反射结构的光，且所述吸收层与所述反射层在所述图形反射结构垂直方向上的投影重叠；

所述穿透式显示屏包括阵列基板，以及设置在所述阵列基板上表面的像素矩阵，所述图形反射结构还包括承载所述吸收层和所述反射层的基板，所述基板设置在所述阵列基板和所述背光源之间；

其中，至少一个所述透过区域设置有N段遮挡层，所述遮挡层将所述透过区域分割成N+1个透过区域，N为大于1的正整数。

2.如权利要求1所述的图形反射结构，其特征在于，

在所述反射层与所述基板之间设置有第一保护层；或者，

在所述吸收层与所述反射层之间设置有第二保护层；或者，

在所述反射层与所述基板之间设置有第一保护层，而且在所述吸收层与所述反射层之间设置有第二保护层。

3.如权利要求2所述的图形反射结构，其特征在于，在所述吸收层表面还设置有第三保护层。

4.如权利要求3所述的图形反射结构，其特征在于，

所述第二保护层覆盖所述反射区域和所述透过区域；或者，

所述第二保护层仅覆盖所述反射区域；或者，

所述第三保护层覆盖所述反射区域和所述透过区域；或者，

所述第三保护层仅覆盖所述反射区域。

5.如权利要求3所述的图形反射结构，其特征在于，所述第一保护层、所述第二保护层、所述第三保护层为透明薄膜层，所述透明薄膜层的材质包括氧化铟锡ITO、氧化硅SiO2，有机绝缘层，和氮化硅SiN_x中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的图形反射结构，其特征在于，所述反射层材质为银、钛、铝、银合金、铝合金或钛合金中的一种或多种；所述吸收层的材质为树脂或氧化铬。

7.如权利要求1所述的图形反射结构，其特征在于，所述基板为玻璃基板或者是柔性基板。

8.一种三维显示器，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的图形反射结构。

9.如权利要求8所述的三维显示器，其特征在于，还包括：

在所述图形反射结构朝向所述背光源一侧设置的第一增光片，和/或，在所述图形反射结构朝向所述穿透式显示屏一侧设置的第二增光片。

10.一种如权利要求1至7中任一项所述的应用于三维显示器的图形反射结构的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，在所述基板上依次形成第一薄膜层和第二薄膜层；

对所述第二薄膜层进行曝光、显影形成吸收层；

将所述吸收层作为掩膜，刻蚀所述第一薄膜层形成反射层，使得所述吸收层与所述反射层在所述图形反射结构垂直方向上的投影重叠；

所述第一薄膜层和所述第二薄膜层被刻蚀的区域为所述图形反射结构的透过区域，所述吸收层和所述反射层所在区域为所述图形反射结构的反射区域，且所述透过区域与所述反射区域依次交替排列。

11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述基板上形成第一薄膜层之前，在所述基板上形成第一保护层；或者，

在所述基板上形成第二薄膜层之前，在所述第一薄膜层上形成第二保护层；或者，

在所述基板上形成第一薄膜层之前，在所述基板上形成第一保护层，以及在所述基板上形成第二薄膜层之前，在所述第一薄膜层上形成第二保护层。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，在所述第一薄膜层上形成第二保护层之后，还包括：

将所述吸收层作为掩膜，刻蚀所述第二保护层，使得所述第二保护层仅覆盖所述反射区域。