[发明专利]一种红外探测器及其制备方法在审
申请号: | 201510010905.1 | 申请日: | 2015-01-09 |
公开(公告)号: | CN104600155A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 谢泉;廖杨芳;张宝晖;杨云良;肖清泉;梁枫;张晋敏;陈茜;谢晶;范梦慧 | 申请(专利权)人: | 贵州大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人: | 程新敏 |
地址: | 550025 贵州省贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 红外探测器 及其 制备 方法 | ||
1.一种红外探测器的制备方法,其特征在于:该方法采用磁控溅射技术在衬底上生长Mg2Si薄膜,然后在衬底下表面镀一层下电极,在Mg2Si薄膜上表面上镀一层上电极。
2.根据权利要求1所述的一种红外探测器的制备方法,其特征在于:所述的衬底采用硅衬底或在衬底上表面镀一层硅膜。
3.根据权利要求1所述的一种红外探测器的制备方法,其特征在于:在Mg2Si薄膜上表面度一层减反射层且上电极伸出减反射层。
4.根据权利要求3所述的一种红外探测器的制备方法,其特征在于:所述的减反射层为一层SiO2薄膜。
5.根据权利要求1所述的一种红外探测器的制备方法,其特征在于:所述的下电极由电阻式热蒸发方法在硅衬底下表面蒸镀一层铝膜制成。
6.根据权利要求1所述的一种红外探测器的制备方法,其特征在于:所述的上电极通过蒸镀Ag膜制成。
7.根据权利要求1所述的一种红外探测器的制备方法,其特征在于:该方法的具体工艺步骤为:
步骤一、清洗衬底,吹干后备用;
步骤二、衬底采用硅衬底时,在硅衬底上利用磁控溅射方法溅射一层Mg膜;
步骤三、衬底不采用硅衬底时,先在衬底上表面镀一层硅膜,在衬底的硅膜上利用磁控溅射方法溅射一层Mg膜;
步骤四、将衬底上的Mg膜进行退火处理,得到Mg2Si薄膜,作为红外辐射的吸收层;
步骤五、在Mg2Si薄膜上溅射一层减反射层;
步骤六、在衬底下面热蒸发一层铝膜作为下接触电极层;
步骤七、在Mg2Si薄膜上的预留区域热蒸发一层银膜作为上电极层且该上电极伸出减反射层。
8.一种红外探测器,包括衬底(2),其特征在于:在衬底(2)上表面设置Mg2Si薄膜(3),Mg2Si薄膜(3)上表面连接上电极(5),在衬底(2)下表面设置下电极(1)。
9.根据权利要求8所述的一种红外探测器,其特征在于:在Mg2Si薄膜(3)上表面镀一层减反射层(4),上电极(5)穿过减反射层(4)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的