[发明专利]光催化剂基材的制作方法及制作设备在审

专利信息
申请号: 201410589553.5 申请日: 2014-10-28
公开(公告)号: CN105618020A 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 曾尧宣;黄祺娟 申请(专利权)人: 睿泽企业股份有限公司
主分类号: B01J21/06 分类号: B01J21/06;A62D3/176;B05D7/24;B05D3/02;B05C9/14;A62D101/28
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光催化剂 基材 制作方法 制作 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种纳米颗粒溶胶喷镀技术,且特别是涉及一种光催化剂 基材的制作方法及制作设备。

背景技术

光催化剂是经过光的照射,可以促进化学反应的物质。目前可用来作 为光催化剂的物质有二氧化钛及硫化镉,其中二氧化钛因为具有优选的氧 化还原能力,高化学稳定度及无毒的特性,常被使用来作为光催化剂的物 质。光催化剂擅长于处理空气中极低浓度的有害化学物质,且本身不会释 出有害物质,因此是极优异的环境净化用催化剂。光催化剂可以产生消臭、 杀菌、抗菌、防污和除去有害物质等功能。

二氧化钛的结晶构造有正方晶系的高温金红石(rutile)型、低温锐钛矿 (anatase)型及属于斜方晶系的板钛矿(brookite)型三种。其中只有锐钛矿结 构具光催化剂的效果。光催化处理程序的光分解机制是借助紫外光或太阳 光激发光催化剂,使光催化剂产生电子以及电洞,借助氧化表面吸附的物 质,进而将表面吸附的物质裂化为小分子。以二氧化钛为例,二氧化钛反 应从照388nm的光波长开始反应(因为二氧化钛的能阶差约为3.2eV,而 388nm的光波长大约可提供3.2eV的能量),二氧化钛吸收光能量产生电子 (e-)及电洞(h+),此电洞具有相当强的氧化力,可以直接将吸附在物质表面 的污染物分子直接氧化使其分解,或者将吸附在物质表面的水分子氧化为 氢氧自由基。原本大分子的污染物,经由光催化剂照光反应将大分子裂解 为小分子,达到污染物清除的目的。

虽然光催化剂已广泛的应用于各样产品,但目前仍没有可有效率且以 较低的成本制作光催化剂基材(特别是纸材)的方法及相关设备。业界需要 一可制作光催化剂基材的方法及自动化装置,进行光催化剂基材的大量生 产。

发明内容

本发明实施方式提供的光催化剂基材的制作方法和制作设备,可以更 有效的量产升光催化剂基材。

本发明一实施方式提供一种光催化剂基材的制作方法,包括:提供一 基材;将基材放置在一传送装置上,传送该基材;当基材传送至一喷涂装 置下,使用喷涂装置在基材的一表面形成一光催化剂层;以及当基材传送 至一加热装置下,使用加热装置使基材的表面上的光催化剂层固化。

本发明一实施方式提供一种光催化剂基材的制作设备,包括:一传送 装置;一喷涂装置,设置在传送装置上方;以及一加热装置,设置在传送 装置上方,且与喷涂装置相隔一段距离。

本发明的有益效果在于,以相对较低成本和相对较快的速度制作光催 化剂基材,更有效益的制作光催化剂基材,达到大量生产的目的。

为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容,请参阅以下有关本发 明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明 加以限制。

附图说明

图1显示本发明一实施方式光催化剂基材的制作方法的方块图。

图2显示本发明一实施方式光催化剂基材的制作设备的示意图。

图3显示本发明一实施方式制作的光催化剂基材进行X光衍射光谱 分析图。

图4显示本发明一实例制作的光催化剂基材光催化降解乙醛的测试 曲线图。

图5显示本发明另一实例制作的光催化剂基材光催化降解乙醛的测 试曲线图。

符号说明

S10:步骤

S20:步骤

S30:步骤

S40:步骤

200:基材

202:滚筒

204:传送装置

206:带状体

208:喷涂装置

210:感应装置

212:加热装置。

具体实施方式

以下是借助特定的具体实例来说明本发明所揭露有关“光催化剂基材 的制作方法”的实施方式,以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相 关技术内容,但所揭示的内容并非用以限制本发明的技术范畴。

第一实施例

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