[发明专利]感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的组件

说明书

一种感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的组件。感光性聚硅氧烷组合物包括聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含氮的杂环化合物(C)、以第四族元素的氧化物为主成分的无机粒子(D)以及溶剂(E)，其中含氮的杂环化合物(C)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群。

技术领域

本发明涉及一种聚硅氧烷组合物，并且特别涉及一种感光性聚硅氧烷组合物。

背景技术

近年来，随着半导体工业、液晶显示器(liquid crystal display,LCD)以及有机电激发光显示器(organic electro-luminescence display,OELD)的发展，伴随而来对于尺寸缩小化的需求，使得光刻工艺(photolithography)成为非常重要的议题。在光刻工艺(photolithography)中，必须将所需的图案(pattern)微细化(finer)，以达到尺寸缩小化的目的。一般而言，微细化的图案是由对具有高分辨率(resolution)及高感光性(photosensitivity)的正型感光性组合物(positive photosensitive composition)进行曝光及显影来形成。值得一提的是，正型感光性组合物通常是以聚硅氧烷高分子(polysiloxane polymer)为主要成分。

日本特开2008-107529号揭示一种可形成高透明度(transparency)硬化膜(hardened film)的感光性树脂组合物。所述感光性树脂组合物包括聚硅氧烷高分子，其中，上述聚硅氧烷高分子是由含有氧杂环丁烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基(即氧基二羰基(oxydicarbonyl group))的硅烷单体于共聚合(copolymerize)时经开环反应而形成。值得一提的是，所述的感光性树脂组合物因具有亲水性结构而在稀薄碱性显影液(alkalideveloper)中具有高溶解度(solubility)。然而，由所述的感光性树脂组合物形成的保护膜与具有保护膜的组件之间的粘附性(adhesion property)却不佳，且所述保护膜的低温固化性(low-temperature curability)目前仍无法被业界接受，因此不利于产业应用性。

于是，急需发展一种感光性组合物，其所形成的保护膜与具有保护膜的组件之间具有良好的低温固化性与粘附性。

发明内容

本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物，其所形成的保护膜具有低温固化性且与具有保护膜的组件之间具有良好的粘附性。

本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物，其包括聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(o-naphthoquinonediazidesulfonate)(B)、含氮的杂环化合物(nitrogen-containing heterocyclic compound)(C)、以第四族元素的氧化物为主成分的无机粒子(D)以及溶剂(E)。含氮的杂环化合物(C)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群：

其中，式(1)至式(4)中，X¹与X²各自独立表示氢原子、酰基(acyl group)或烷基；R¹至R⁹各自独立表示氢原子、羟基(hydroxy group)、羧酸基(carboxyl group,-COOH)、磺酸基(sulfo group,-SO₃H)、烷基、胺基(amino group)、卤素原子或巯基(mercapto group,-SH)；m、n、q、s各自独立表示选自0、1、2、3的整数；p、r各自独立表示选自0、1、2的整数；t、u各自独立表示选自0、1、2、3、4的整数。