[发明专利]感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀图形的形成方法，其特征为具备下述工序：

在基板上形成含有感光性树脂组合物的感光层的感光层形成工序；

通过直接绘图曝光法将所述感光层的规定部分曝光于光的曝光工序；以及

使经曝光的所述感光层进行显影形成光致抗蚀图形的显影工序，

所述感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C1)下述通式(1)所表示的化合物和(C2)2,4,5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物，

相对于所述(A)成分与所述(B)成分的总量100质量份，所述(C1)成分的配合量为0.05～0.8质量份，所述(C2)成分的配合量为3～5质量份，

式(1)中，至少1个R表示碳数4～12的烷基，a、b及c的总和为1～6；a、b及c的总和为2～6时，同一分子中的复数的各个R相同或相异。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(A)成分为含有丙烯酸系聚合物的成分，所述丙烯酸系聚合物具有以来自丙烯酸和/或甲基丙烯酸的单体单元与来自丙烯酸的烷基酯和/或甲基丙烯酸的烷基酯的单体单元作为构成单元。

3.根据权利要求2所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(A)成分进一步含有来自苯乙烯的单体单元作为构成单元。

4.根据权利要求3所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，以所述粘合剂聚合物的总量为基准，所述(A)成分中来自苯乙烯的所述单体单元的含量为3～30质量％。

5.根据权利要求3所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，以所述粘合剂聚合物的总量为基准，所述(A)成分中来自苯乙烯的所述单体单元的含量为4～28质量％。

6.根据权利要求3所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，以所述粘合剂聚合物的总量为基准，所述(A)成分中来自苯乙烯的所述单体单元的含量为5～27质量％。

7.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，相对于所述(A)成分及所述(B)成分的总量100质量份，所述(B)成分的配合量为20～80质量份。

8.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述a、b和c的总和为1或2。

9.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(B)成分含有含双酚骨架(甲基)丙烯酸酯化合物。

10.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(B)成分含有具有1个乙烯性不饱和键的单官能性的光聚合性化合物、与具有2个以上的乙烯性不饱和键的多官能性的光聚合性化合物。

11.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述直接绘图曝光法包括：曝光于在350nm以上且未满440nm的波长范围内具有波峰的激光。

12.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(C1)成分的最大吸收波长为370nm以上且未满420nm。

13.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(C1)成分的最大吸收波长为380nm以上且未满400nm。

14.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述(C2)成分为选自由2-(邻氯代苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(邻氟代苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物和2-(对甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物组成的组中的至少1种。

15.根据权利要求1所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述感光性树脂组合物进一步含有(D)无色结晶紫。

16.根据权利要求15所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，所述无色结晶紫的配合比例相对于所述(A)成分与所述(B)成分的合计量100质量份为0.01～10质量份。

17.根据权利要求15所述的光致抗蚀图形的形成方法，其中，相对于所述(A)成分与所述(B)成分的合计量100质量份，所述无色结晶紫的配合量为0.05～5质量份。