[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201410366579.3 申请日: 2014-07-29
公开(公告)号: CN104155812A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 李鸿鹏;宋省勋;李京鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1368;G02F1/1333
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 液晶 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置。

背景技术

薄膜场效应晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点,在当前的显示器市场中占据主导地位。

TFT-LCD包括阵列基板、彩膜基板以及位于二者之间的液晶层。其中,阵列基板包括设置在衬底基板上的栅极、与栅极同层的栅线、栅绝缘层、半导体有源层、源极和漏极、像素电极等。

其中,由于栅极和漏极之间存在寄生电容,并且当该阵列基板为底栅型阵列基板时,由于像素电极与数据线之间最多只有一层氮化硅的保护层而易受到数据线产生电场的干扰,因此,通常采用介电常数较低的树脂层来代替保护层,以解决上述寄生电容以及干扰的问题。

然而,当树脂材料暴露于空气中时,其容易吸收水分,从而引发各种画面品质不良(mura)现象的出现。

发明内容

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置,可避免由于树脂层暴露在空气中而引发的各种mura现象。

为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:

一方面,提供一种阵列基板,包括衬底基板、依次设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、树脂层以及像素电极,在此基础上,所述阵列基板还包括设置在所述树脂层与所述像素电极之间的钝化层,且所述钝化层完全包裹所述树脂层。

优选的,所述树脂层的边缘距离所述衬底基板的边缘1000-2000μm;所述钝化层的边缘与所述衬底基板的边缘齐平。

优选的,所述阵列基板还包括设置在所述树脂层与所述钝化层之间公共电极。

基于上述,优选的,所述树脂层的材料为光刻胶。

优选的,所述阵列基板还包括设置在所述树脂层靠近所述衬底基板一侧且与所述树脂层接触的粘附层;其中,所述粘附层用于增强所述树脂层的粘附性。

另一方面,提供一种液晶显示装置,包括上述任一项所述的阵列基板。

再一方面,提供一种阵列基板的制备方法,包括:在衬底基板上依次形成薄膜晶体管、树脂层、以及像素电极,在此基础上,所述方法还包括在所述树脂层与所述像素电极之间形成钝化层,且所述钝化层完全包裹所述树脂层。

优选的,形成所述树脂层和所述钝化层包括:

在形成有所述薄膜晶体管的基板上,通过一次构图工艺形成所述树脂层,所述树脂层包括露出所述薄膜晶体管的漏极的第一过孔;其中,所述树脂层的边缘距离所述衬底基板的边缘1000-2000μm;在形成有所述树脂层的基板上,通过一次构图工艺形成所述钝化层,所述钝化层包括与所述第一过孔对应的第二过孔;其中,所述钝化层的边缘与所述衬底基板的边缘齐平。

进一步优选的,所述在形成有所述薄膜晶体管的基板上,通过一次构图工艺形成所述树脂层,包括:

在形成有所述薄膜晶体管的基板上,形成光刻胶薄膜;采用普通掩模板对形成有所述光刻胶薄膜的基板进行曝光,形成光刻胶完全曝光部分和光刻胶未曝光部分;其中,所述光刻胶完全曝光部分至少对应所述第一过孔的区域和所述衬底基板的边缘区域,所述光刻胶未曝光部分对应其他区域;显影后,所述光刻胶未曝光部分形成所述树脂层。

基于上述,优选的,所述方法还包括:在所述树脂层与所述钝化层之间形成公共电极;其中,在所述第一过孔和所述第二过孔对应的位置,所述公共电极断开。

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置,该阵列基板包括衬底基板、依次设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、树脂层以及像素电极,在此基础上,所述阵列基板还包括设置在所述树脂层与所述像素电极之间的钝化层,且所述钝化层完全包裹所述树脂层。

由于所述树脂层位于所述薄膜晶体管和所述像素电极之间,因此,不管是顶栅型薄膜晶体管还是底栅型薄膜晶体管,本发明实施例提供的阵列基板,均可以增大栅极与像素电极之间、漏极或栅极与像素电极之间的距离,从而可以解决栅极与漏极之间的寄生电容以及像素电极受到数据线或栅线干扰的问题。在此基础上,由于还设置有包裹所述树脂层的钝化层,所述钝化层可以使所述树脂层与空气、水隔绝,从而可以避免由于树脂层暴露在空气中而引发的各种mura现象。

附图说明

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