[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底基板、依次设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、树脂层以及像素电极，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述树脂层与所述像素电极之间的钝化层，且所述钝化层完全包裹所述树脂层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述树脂层的边缘距离所述衬底基板的边缘1000-2000μm；

所述钝化层的边缘与所述衬底基板的边缘齐平。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述树脂层与所述钝化层之间公共电极。

4.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述树脂层的材料为光刻胶。

5.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述树脂层靠近所述衬底基板一侧且与所述树脂层接触的粘附层；

其中，所述粘附层用于增强所述树脂层的粘附性。

6.一种液晶显示装置，其特征在于，包括权利要求1至5任一项所述的阵列基板。

7.一种阵列基板的制备方法，包括：在衬底基板上依次形成薄膜晶体管、树脂层、以及像素电极，其特征在于，所述方法还包括在所述树脂层与所述像素电极之间形成钝化层，且所述钝化层完全包裹所述树脂层。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，形成所述树脂层和所述钝化层包括：

在形成有所述薄膜晶体管的基板上，通过一次构图工艺形成所述树脂层，所述树脂层包括露出所述薄膜晶体管的漏极的第一过孔；其中，所述树脂层的边缘距离所述衬底基板的边缘1000-2000μm；

在形成有所述树脂层的基板上，通过一次构图工艺形成所述钝化层，所述钝化层包括与所述第一过孔对应的第二过孔；其中，所述钝化层的边缘与所述衬底基板的边缘齐平。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述薄膜晶体管的基板上，通过一次构图工艺形成所述树脂层，包括：

在形成有所述薄膜晶体管的基板上，形成光刻胶薄膜；

采用普通掩模板对形成有所述光刻胶薄膜的基板进行曝光，形成光刻胶完全曝光部分和光刻胶未曝光部分；其中，所述光刻胶完全曝光部分至少对应所述第一过孔的区域和所述衬底基板的边缘区域，所述光刻胶未曝光部分对应其他区域；

显影后，所述光刻胶未曝光部分形成所述树脂层。

10.根据权利要求7至9任一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述树脂层与所述钝化层之间形成公共电极；其中，在所述第一过孔和所述第二过孔对应的位置，所述公共电极断开。