[发明专利]一种显示基板、其制作方法及显示装置在审
申请号: | 201410318552.7 | 申请日: | 2014-07-04 |
公开(公告)号: | CN104133325A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 李宾;陆相晚 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 230011 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 制作方法 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,发光二极管(Light Emitting Diode,LED)、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)、等离子显示器(Plasma Display Panel,PDP)及液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平板显示器发展迅速。
以液晶显示器为例,包括相对而置的彩膜基板和阵列基板,以及位于两基板之间的液晶层。如图1a和图1b所示(图1b为图1a沿AA方向的截面图),液晶显示器中的彩膜基板包括:衬底基板101,以及位于衬底基板101上的黑矩阵层102、彩膜层103、主隔垫物104和辅隔垫物105;其中,彩膜层103位于黑矩阵层102的间隙处,主隔垫物104和辅隔垫物105都位于黑矩阵层102的上方,主隔垫物104和辅隔垫物105的底部到衬底基板101的距离相同,为黑矩阵层102的厚度;或者,彩膜基板还可以为如图1c所示的结构,彩膜层103整面设置于黑矩阵层102的上方,主隔垫物104和辅隔垫物105都位于彩膜层103的上方,主隔垫物104和辅隔垫物105的底部到衬底基板101的厚度相同,为彩膜层103和黑矩阵层102的厚度之和。
在上述两种结构的彩膜基板中,主隔垫物和辅隔垫物位于同一水平面上,即主隔垫物和辅隔垫物的底部到衬底基板的距离相等。在液晶显示器受到外力按压时,为了使主隔垫物和辅隔垫物起到缓冲外部压力的作用,需要主隔垫物和辅隔垫物之间具有一定的高度差,即主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度,主隔垫物和辅隔垫物之间的高度差可以使液晶显示器具有一定的形变量,从而可以达到缓冲外部压力的目的。
现有的主隔垫物和辅隔垫物是利用同一张掩膜板采用一次构图工艺同时形成的。为了使主隔垫物和辅隔垫物之间存在高度差,一般将掩膜板中用于形成辅隔垫物的区域的面积设计为小于用于形成主隔垫物的区域的面积,即形成的辅隔垫物在衬底基板上的投影面积小于主隔垫物在衬底基板上的投影面积(如图1a所示),以使辅隔垫物的高度小于主隔垫物的高度。然而,由于掩膜板中用于形成辅隔垫物的区域的面积较小,会导致形成的辅隔垫物的高度均匀性较差,从而会影响主隔垫物和辅隔垫物缓冲外部压力的效果。
因此,如何使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果,是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供了一种显示基板、其制作方法及显示装置,用以使辅隔垫物缓冲外部压力的效果较佳。
因此,本发明实施例提供了一种显示基板,包括:衬底基板,位于所述衬底基板上的黑矩阵层和彩膜层,以及位于所述黑矩阵层和彩膜层之上且正投影位于所述黑矩阵层所在区域的主隔垫物和辅隔垫物;
在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和,以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述显示基板中,所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述显示基板中,所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述显示基板中,所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述显示基板中,所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度;
所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述显示基板中,所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法,包括:
在衬底基板上形成包括黑矩阵层和彩膜层的图形;
在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形;其中,所述主隔垫物和辅隔垫物在所述衬底基板的正投影位于所述黑矩阵层所在区域,在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和,以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。
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