[发明专利]一种显示基板、其制作方法及显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵层和彩膜层，以及位于所述黑矩阵层和彩膜层之上且正投影位于所述黑矩阵层所在区域的主隔垫物和辅隔垫物；其特征在于：

在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。

4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。

5.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度；

所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。

6.如权利要求1-5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成包括黑矩阵层和彩膜层的图形；

在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，所述主隔垫物和辅隔垫物在所述衬底基板的正投影位于所述黑矩阵层所在区域，在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体包括：

在衬底基板上形成彩膜层薄膜；

对所述彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，所述彩膜层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述形成的包括彩膜层的图形中与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体包括：

在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜；

对所述黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，所述黑矩阵层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。

11.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体包括：

在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜；

对所述黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，所述黑矩阵层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度；

所述在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体包括：

在衬底基板上形成彩膜层薄膜；

对所述彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，所述彩膜层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。

12.如权利要求7-11任一项所述的方法，其特征在于，所述在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形，具体包括：

采用一次构图工艺形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。

13.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1-6任一项所述的显示基板。