[发明专利]OLED显示结构及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种全彩化OLED显示结构及其制作方法。

背景技术

在显示技术领域，平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示技术已经逐步取代CRT显示器。其中，OLED具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全彩显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。

OLED通常包括：基板、置于基板上的ITO透明阳极、置于ITO透明阳极上的空穴注入层(HIL)、置于空穴注入层上的空穴传输层(HTL)、置于空穴传输层上的发光层(EML)、置于发光层上的电子传输层(ETL)、置于电子传输层上的电子注入层(EIL)以及置于电子注入层上的阴极。为了提高效率，发光层通常采用主/客体掺杂系统。目前，OLED的制作方法是将有机材料以真空热蒸镀法成膜于ITO阳极层上，再将金属阴极以热蒸镀或溅镀的方式沉积上去。

OLED全彩化显示是OLED技术的主要发展趋势。现在提出的OLED全彩化显示技术包括RGB像素并置法、色转换法、彩色滤光片法、微共振腔法和多层堆栈法五种。其中，应用微共振腔法实现OLED全彩化显示技术具有发光效率高、色纯度高、适合于大面积生产等优点。利用微共振腔效应，使具有某特定波长的光得到增强，而其它部分的光被削弱。

微共振腔法利用微共振腔的发光特性由其光学长度决定，并与每层材料的厚度、折射率有关。目前应用较多的微共振腔多为平坦型结构，其发光强度和色彩具有较强的方向性，不利于实现宽视角显示。

发明内容

本发明的目的在于提供一种OLED显示结构，能够实现全彩化和宽视角显示。

本发明的另一目的在于提供一种OLED显示结构的制作方法，该方法简便易实现，通过该发法制得的OLED显示结构能够进行全彩化和宽视角显示，且该方法能够简化生产工艺，有助于促进OLED大世代线生产。

为实现上述目的，本发明首先提供一种OLED显示结构，包括：基板、位于基板上的OC层及位于该OC层上的微共振腔；所述OC层远离基板的上表面呈波浪形起伏状，具有凸起的波峰部及与波峰部平滑连接的凹陷的波谷部，所述微共振腔呈与所述OC层的上表面一致的波浪形起伏状，以消除发光强度和色彩具有方向性的问题，实现宽视角显示。

所述微共振腔包括位于所述上表面上的发射层、位于发射层上的缓冲层、位于缓冲层上的电极层、位于电极层上的白光有机层及位于白光有机层上的半反半透层，所述发射层、缓冲层、电极层、白光有机层与半反半透层均呈与所述OC层的上表面一致的波浪形起伏状，以消除发光强度和色彩具有方向性的问题，实现宽视角显示。

所述缓冲层对应R、G、B不同颜色的子像素具有不同的厚度，以调整所述微共振腔的腔长，实现全彩化显示；所述发射层的材质为Ag；所述缓冲层的材质为SiNx；所述电极层的材质为ITO；所述半反半透层的材质为MgAg。

两相邻所述波峰部最高点的距离为8um，所述波峰部最高点与波谷部最低点的距离为1.6～1.8um。

所述缓冲层的折射率等于电极层的折射率。

所述微共振腔对应R、G、B不同颜色子像素的腔长分别为红光、绿光、蓝光半波长的整数倍。

所述白光有机层包括白光空穴注入层、白光空穴传输层、白光发光层、白光电子传输层、及白光电子注入层。

本发明还提供一种OLED显示结构的制作方法，包括如下步骤：

步骤1、提供一基板；

步骤2、在基板上形成OC层，并对OC层进行曝光、显影，使其形成呈波浪形起伏状的上表面，该上表面具有凸起的波峰部及与波峰部平滑连接的凹陷的波谷部；

步骤3、在OC层的上表面上形成与该上表面形状一致的发射层；

步骤4、在发射层上形成一定厚度H1的缓冲层，该厚度H1等于对应R像素微共振腔的腔长所需的缓冲层厚度；

步骤5、在缓冲层上涂覆光刻胶，并进行曝光、显影形成光阻图形，将B像素对应的光阻图形全部显影掉，将G像素对应的光阻图形显影成Half Tone结构，将R像素对应的光阻图形全部保留；

步骤6、通过干法蚀刻去除没有光阻图形保护的B像素对应的缓冲层，形成对应B像素微共振腔的腔长；

步骤7、通过干蚀刻法烧蚀去除G像素对应的Half Tone结构的光阻图形；