[发明专利]气体供给头、气体供给机构和基板处理装置

权利要求书

1.一种安装于基板处理装置的气体供给机构，其特征在于，包括：

独立地供给不同的2种气体的2个系统的气体供给管，该气体供给管从一个气体供给源向下游侧去等长分支为2ⁿ根，末端的2ⁿ根分支管的气体排出口在一直线上等间隔排列，其中，n为自然数；和

一个长条状的气体供给头，其包括与所述2个系统的气体供给管中的2个系统的所述2ⁿ根分支管的气体排出口分别连通的长槽状的独立的2个气体扩散室，和在长度方向上等间隔地形成的将导入到所述2个气体扩散室的气体分别排出的多个气体排出孔，

所述气体供给头包括：头主体，其包括沿着所述长度方向设置的相互平行的第一铅垂壁和第二铅垂壁，以及连结所述第一铅垂壁和所述第二铅垂壁的水平壁；分别安装于所述头主体的所述水平壁的两表面的盖体；和在与所述长度方向正交的方向上与所述2个系统的气体供给管中的所述2个系统的2ⁿ根分支管分别连通并且与所述2个气体扩散室分别连通的2个系统的2ⁿ个头内气体供给孔，

所述2个气体扩散室通过用所述盖体将与所述水平壁的两表面接触的长槽状的空间密闭而形成，

所述气体排出孔，以分别隔着所述2个气体扩散室与所述2个系统的2ⁿ个头内气体供给孔分别相对并且在一直线上等间隔地排列的方式，与所述2个系统的2ⁿ根分支管各自对应地设置有多个。

2.如权利要求1所述的气体供给机构，其特征在于：

所述气体排出孔和所述头内气体供给孔设置在从与所述气体供给头的长度方向正交的方向观看时不重复的位置。

3.如权利要求1或2所述的气体供给机构，其特征在于：

所述气体扩散室，通过对所述头主体的所述水平壁的两表面实施利用立铣刀进行的加工而形成。

4.如权利要求1或2所述的气体供给机构，其特征在于：

所述气体排出孔以与所述2个气体扩散室分别连通的方式在所述气体供给头的长度方向上交错地配置成2列。

5.如权利要求1或2所述的气体供给机构，其特征在于：

所述气体供给管的所述2ⁿ根分支管从水平方向与所述气体扩散室连接，导入到所述气体扩散室的气体从所述气体排出孔在水平方向上排出。

6.一种基板处理装置，其特征在于：

包括权利要求1～5中任一项所述的气体供给机构。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：

包括处理容器，该处理容器包括具有载置基板的载置面的载置台和覆盖所述载置台的上盖，通过使所述上盖覆盖所述载置台而形成收纳载置于所述载置面的基板的处理空间，

所述气体供给头以与其长度方向平行的一个侧面与所述载置台的一边的侧壁紧贴的方式配置于所述处理空间，

在所述处理容器的所述一边的侧壁与所述载置面平行地设置有2个系统的2ⁿ个载置台内气体供给孔，所述2个系统的2ⁿ个载置台内气体供给孔与所述气体供给管的下游侧的所述2个系统的2ⁿ根分支管的气体排出口连通并且与所述气体供给头的所述气体扩散室连通。