[发明专利]一种IGBT芯片及其制造方法在审
| 申请号: | 201410210503.1 | 申请日: | 2014-05-19 | 
| 公开(公告)号: | CN103956380A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 | 
| 发明(设计)人: | 吕新立;薛涛 | 申请(专利权)人: | 淄博美林电子有限公司 | 
| 主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331 | 
| 代理公司: | 淄博佳和专利代理事务所 37223 | 代理人: | 孙爱华 | 
| 地址: | 255000 *** | 国省代码: | 山东;37 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 igbt 芯片 及其 制造 方法 | ||
1.一种IGBT芯片,包括P型基片(2)、P型基片(2)上方的N型外延层(1)、N型漂移层(4)以及顶层的金属层(3),其特征在于:在IGBT芯片外侧纵向设置有向下延伸至P型基片(2)的绝缘沟槽,绝缘沟槽内填充有绝缘层。
2.根据权利要求1所述的IGBT芯片,其特征在于:在所述的绝缘层的外侧设置有一个或多个导电沟槽,导电沟槽内填充有与所述P型基片(2)接触的导电层(6)。
3. 根据权利要求1或2所述的IGBT芯片,其特征在于:在所述的P型基片(2)下方设置有第二绝缘层(7)。
4. 根据权利要求1或2所述的IGBT芯片,其特征在于:所述的绝缘层为第一绝缘层(5)。
5.实现权利要求1~4任一项所述的IGBT芯片的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1:制造IGBT芯片;
步骤2:在IGBT芯片的一侧刻蚀出绝缘沟槽;
步骤3:在绝缘沟槽内填充第一绝缘层(5);
步骤4:在第一绝缘层外侧填充与P型基片(2)接触的导电层(6);
步骤5:在IGBT底部填充第二绝缘层(7);
步骤6:自IGBT顶层将门极、集电极、发射极引出。
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