[发明专利]一种可控反应物均匀分布的双通道喷口结构

权利要求书

1.一种可控反应物均匀分布的双通道喷口结构，其特征为：包含第一通道和第二通道；所述第二通道位于第一通道的中心位置，第一通道通入气体为气相沉积反应物气体，如GaCl；所述第二通道通入气体可以是N₂也可以是GaCl与N₂的混合气体。 

2.根据权利要求1所述的双通道喷口结构，其特征为：所述通入的各气体的流量比例可以任意调节。 

3.根据权利要求1所述的所述反应物气体，其特征为：所述反应物气体喷出该喷口后可以与其他反应气体(如NH₃)相结合生成产物。 

4.根据权利要求1所述的双通道喷口结构，其特征为：所述第一通道为等直径或变直径圆柱形通道。 

5.根据权利要求1所述的双通道喷口结构，其特征为：所述第二通道可以为一段圆柱形通道，也可由两段组成，上段为圆柱形，下段为圆台形或倒圆台形，两段相连处直径相等。 

6.根据权利要求1所述的双通道喷口结构，其特征为：所述双通道喷口结构，既可应用于立式HVPE系统，也可应用于倒立式HVPE系统。